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欧州(3): 調査報告(サーチレポート)に対する応答と自発補正

欧州サーチレポートに対する応答に対する応答義務

2010年4月1日に施行された欧州特許条約(EPC)の施行規則改定により、欧州サーチレポートに対する応答(正式にはサーチレポートに添付されている調査見解書に対する応答)が義務化されました。 但し、応答の義務があるのは、欧州サーチレポートが否定的な内容である場合(特許性の瑕疵の指摘や補正の必要性の指摘などを含んでいる場合)にのみ応答が必要となります。期限内に応答しない場合には、出願取り下げとなってしまいます。肯定的な内容である場合は、応答の必要はありません。

応答の対象となるレポートや応答の期限は、出願の方式により異なります。日本国内の出願人による欧州出願の場合、応答の対象となるレポートや応答の期限は以下のようになります。

国際調査機関/ 国際予備審査機関 応答すべきサーチレポート*1 応答期限

Case 1:

非PCT経由の欧州出願

--- EESR (ESR+調査見解書 EESRの公開から6ヶ月以内*2

Case 2:

日本語でPCT出願

→ 欧州移行

JPO EESR (SESR+調査見解書)  EESR公開の約1ヶ月後に発行される応答要求の通知(規則70(2)、70a(2))から6ヶ月以内

Case 3:

英語でPCT出願

→ 欧州移行

(国際調査機関及び国際予備審査機関として、JPO又はEPOのいずれかを選択できる

JPOの場合(Case 3-1)

 

EESR (SESR+調査見解書)  EESR公開の約1ヶ月後に発行される応答要求の通知(規則70(2)、70a(2))から6ヶ月以内
EPOの場合(Case 3-2) ISR/IPER ISRの公開又は欧州移行の遅い方から約2ヶ月後にEPOより発行される応答要求の通知(規則161(1))から6ヶ月以内

*注:
1) ESR: European Search Report, 欧州調査報告
   SESR: Supplementary European Search Report, 補充欧州調査報告
   EESR: Extended European Search Report, 拡張欧州調査報告 (ESR又はSESR+調査見解書)
   ISR: International Search Report, 国際調査報告
   IPER: International Preliminary Examination Report, 国際予備審査報告

2) 実際には、EESRの発行前に審査請求がされていた場合には、EESR発行後に出される審査請求の確認要求通知に対する回答期限ということになるが、この回答期限は実務上はESSR発行後6ヶ月であるため、結局は、審査請求の有無によらずEERS発行後6ヶ月の期限ということになる。

自発補正

2010年4月1日の規則改正により自発補正が可能な時期が制限されましたが、自発補正の期限は上記のサーチレポートに対する応答期限と同様になります。

上記Case 2とCase 3-1(JPOが国際調査機関及び国際予備審査機関であるPCT出願)の場合には、SESR(補充欧州調査報告)よりも前に発行される規則161(2)の通知から1ヶ月以内にも自発補正を行うことが出来ます。

タグ:

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パラメータ発明、パラメータ特許について(Part 3 日本における注意事項)

(II-4)パラメータ発明に関する日本出願の注意事項:

前回"Part 2"で説明しました通り、日本(と韓国)以外の国においては、パラメータ発明であっても他の数値限定発明の場合と要求事項は大差有りませんが、日本(と韓国)においては厳しい要件が有ります。

特に日本では、米国や欧州と比較して、サポート要件と明確性要件が厳しくなっております。

日本では、パラメータ発明の出願などの所謂「複雑出願」(膨大な選択肢を有したり、もたらされる結果で発明を記述したり、特殊なパラメータで発明を記述しようとする特許出願)といわれる出願の増加にともない、サポート要件の審査基準が厳しくなってきています。つまり、従来はクレームと明細書との単なる形式的な記載レベルの整合性が審査されることが主でしたが、近年では、技術の内容に立ち入って実質的な対応関係が審査されるようになりました。具体的には、以下のようなことが要求されます。

データ(実施例)

クレームされた当該パラメータの全範囲にまで発明を一般化できると主張できる充分なデータを明細書に記載すること、つまり、当該パラメータの全範囲をカバーする充分な数の実施例を記載することが重要です。

どの程度で「充分」と言えるのかは、ケース・バイ・ケースですが、例えば、中国の審査基準には以下のような要件が記載されています:

「通常は両端の数値付近(最適は両端値)の実施例を記載し、数値範囲が広い場合には、少なくとも一つの中間数値の実施例を記載しなければならない。」(専利審査指南、第二部分、第二章、2.2.6項)

特に、1つのパラメータで発明が定義されている場合は、国を問わず、上記は有効な指標となるでしょう。

一方、複数のパラメータの論理積(複数パラメータの規定範囲の重複部分)として発明が定義されているような場合は、要求されるデータは必然的に多くなります。その境界における臨界性(範囲内外での効果の違い)を明確にする為に多くのデータが要求されることがあります(理屈としては、ベン図における論理積(重複部分)の境界線を明らかに出来る程度の数のデータが必要になります)。上で述べた偏光フィルム事件は、複数のパラメータで発明が規定された例にあたり、実施例2つと比較例2つでは不十分であると認定されました。

もしも、どうしても出願時点で充分なデータを揃えられないという場合は、次善の策として、少なくとも、明細書に記載されるデータからその式を導き出すこと、及び、クレームされた数値範囲を定めること、が妥当であることを示す一応筋の通った理論や理由を述べておくことが絶対に必要です。

パラメータを規定する式

式などでパラメータを記載する場合は、明細書に記載されるデータからその式を導き出した根拠とクレームされた数値範囲を定めた根拠についての説明を述べることが要求されます。

パラメータで規定する範囲

パラメータの数値範囲が一見して非常に広範囲である印象を与える場合は、一般には具体的にどのくらいの数値範囲となるのかを示すことが望ましいとされています。

パラメータの数値範囲に下限または上限のいずれか片方しかない場合(所謂「オープンエンド(open ended)」のパラメータの場合)は、下限または上限の無い全範囲にわたってサポートされてはいないとみなされる可能性があります(または、不明確であるとみなされる可能性があります)。したがって、下限または上限を記載することが不可能でない限りは、それを、少なくとも明細書には記載しておくことが非常に望ましいと考えます。その際、下限または上限を記載することが真に不可能である場合は、その理由を合理的に記載しておくことが望ましいと考えます。

パラメータの明確性

測定方法が不明確であるために権利範囲が不明確となるという場合の典型例は、以下の通りです。まず、明細書に測定方法が記載されているが不明確である場合があります。また、明細書に複数の測定方法が記載されており、どの方法を用いるかで測定値に違いが生じるので不明確となる場合もあります。また、明細書に測定方法が記載されておらず、一般に複数の測定方法が知られており、どの方法を用いるかで測定値に違いが生じるので不明確となる場合もあります。したがって、当業者が疑問を生じることなく正しく実施できる1つの測定方法を明確に記載する必要があります。

また、当該パラメータが直感的に理解し難い複雑な式などで記載されている場合は、「当該パラメータの技術的意味が不明確である」という指摘や、「当該パラメータを特定の範囲とすることが発明の作用・効果とどのように関連するのかが不明確である」という指摘を審査官から受ける可能性があります。

尚、「技術的意味」について、審査基準では、「発明を特定するための事項の技術的意味とは、発明を特定するための事項が、請求項に係る発明において果たす働きや役割のことを意味し、これを理解するにあたっては、明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識を考慮する」と述べられています。したがって、直感的に理解し難い複雑な式などでパラメータを記載する場合は、その「技術的意味」、すなわち、「発明において果たす働きや役割」(言い換えると、発明の作用・効果とどのように関連するのか)についての分かりやすい説明を明細書に記載することが必要です。

従って、日本(若しくは韓国)での権利化が重要であれば、審査基準に鑑み以下の様な点に注意して出願明細書を作成することが望ましいと考えます。

① 明細書に、クレームされたパラメータの範囲の技術的意味(すなわち、「発明において果たす働きや役割」)を明確に記載する。

② 式などでパラメータを記載する場合は、明細書に記載されるデータからその式を導き出した根拠とクレームされた数値範囲を定めた根拠についての説明を記載する。

③ パラメータ発明と従来技術のものとの関係を明細書において明確にしておく。すなわち、たとえば、「従来技術のものがクレームに記載するパラメータの範囲に入らず、発明の効果を発揮しないこと」を示すことができる比較実験データを実施例や比較例として記載する。

④ クレームされた当該パラメータの全範囲にまで発明を一般化できると主張できる充分なデータを含む実施例と、出来れば先行技術に相当する比較例やパラメータの臨界性を示す比較例(クレームしたパラメータ要件を満たさない場合、意図した効果が達成できないことを示す実験データ)とを明細書に記載する。  パラメータの数値範囲に下限と上限のいずれか片方しか設けない(open end)ということは、なるべく避けて、下限または上限を記載することが不可能でない限りは、少なくとも明細書には記載しておく。

⑤ パラメータ発明のものを製造する方法(製造条件)を明確に記載する(製造条件に関する種々の具体的な数値を記載する)。特に、当該パラメータを制御してクレーム範囲内の任意の値を容易に達成できるような手段を記載する。

⑥ 当該パラメータの数値を決定するための1つの測定方法を明確に記載する。

⑦ 出願後に実験データなどを提出することによって記載要件(サポート要件や実施可能要件)の不備を解消することは認められていないので、特にこの点で充分なデータや説明を記載しておくように留意する。

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《特許出願明細書》

分野 : バイオテクノロジー(細胞生物学) (和英)

原文:

更に、MAPKキナーゼの活性化には、キナーゼドメインVIIとVIIIの境界領域にある2つのセリン及び/又はスレオニン残基(即ち、2つのセリン残基、2つのスレオニン残基又はセリンとスレオニン残基)のリン酸化が必要で、このリン酸化を担うセリン/スレオニンキナーゼをMAPKKキナーゼ(MAPKKK)と総称する。前記のRaf-1はMAPKKキナーゼの一種であり、Ras→Raf-1(即ち、MAPKKK)→MAPKK→MAPKという連鎖は、シグナル伝達の主要経路の一つである。MAPKKK→MAPKK→MAPKという3分子からなるキナーゼの連鎖をMAPキナーゼシグナルカスケードと呼ぶ。

英訳文:

For activating a MAPK kinase, it is necessary to phosphorylate two serine and/or threonine residues (i.e., two serine residues, two threonine residues, or one serine residue and one threonine residue) located in the boundary region between the kinase subdomains VII and VIII, and a serine/threonine kinase responsible for this phosphorylation is designated MAPKK kinase (MAPKKK). The above-mentioned Raf-1 is one example of MAPKK kinase, and the following cascade reaction: Ras → Raf-1 (i.e., MAPKKK) → MAPKK → MAPK, is one of the major signal transduction pathways. The cascade reaction consisting of three kinase molecules, MAPKKK → MAPKK → MAPK, is called a MAP kinase signal cascade.

分野:バイオテクノロジー(遺伝子工学) (和英)

原文:

SIIS-1発現プラスミドの構築上記(ii)で単離したSIIS-1cDNAを制限酵素XbalとPvuIIで消化し、得られた制限酵素断片をブラントエンド化し、哺乳動物発現ベクターpEF-BOSのブラントエンド化したXbalサイトに挿入した。以下、構築したSIIS-1発現ベクターをpEF-BOS/SIIS-1(SH+)とする。SH2領域を欠損した変異型SIIS-1を構築するために、pEF-BOS/SIIS-1(SH+)を制限酵素BssHIIで消化し、生じた360bpの断片を除去した。得られたSH2領 域及びC末端の領域を欠損したSIIS-1発現ベクター(即ち、SIIS-1変異ベクター)を、pEF-BOS/SIIS-1(SH-)とした。 上記で構築したpEF-BOS/SIIS-1(SH+)又はpEF-BOS/SIIS-1(SH-)のいずれか一方の発現ベクターとネオマイシン耐性遺伝子をコードするpSV2 Neoとを20:1の比率で混ぜ、M1細胞にエレクトロポレーション法で形質導入した。ネオマイシン耐性を指標とし、形質導入体(クローン)をGeneticin(米国、GIBCOBRL社製)750μg/mlを含む成長培地中で選択した。

英訳文:

Construction of SIIS-1 expression vectors: SIIS-1 cDNA isolated in step (ii) above was digested with restriction enzymes XbaI and PvuII, and the end of the obtained restriction fragment (XbaI-PvuII) was converted into a blunt end. Then, the resultant blunt-ended fragment was inserted into the blunt-ended XbaI site of the mammalian expression vector pEF-BOS. Hereinafter, the constructed SIIS-1 expression vector is simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH+)". For the construction of a mutant SIIS-1 which is an SH2 domain-deficient SIIS-1, a BssHII-digested fragment of 360 bp was removed from pEF-BOS/SIIS-1 (SH+). The thus obtained SIIS-1 expression vector (that is, a mutant SIIS-1 vector) which is deficient in the SH2 domain and is truncated at the C-terminus is hereinafter simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH-)". Each of the expression vectors pEF-BOS/SIIS-1 (SH+) and pEF-BOS/SIIS-1 (SH-) prepared above was individually mixed with expression vector pSV2 Neo (encoding a neomycin-resistance gene) at a ratio of 20:1. Subsequently, each of the resultant vector mixtures was separately transfected into M1 cells by electroporation. Using neomycin resistance as an index, the transfectants (i.e., clones) were selected in the growth medium containing Geneticin (manufactured and sold by GIBCO BRL, USA) at 750 μg/ml.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

本発明の発泡射出成形方法によれば、金型キャビティ内壁面形状の転写性が良好で、無発泡の表皮層と高発泡の発泡層を有する成形品を再現性良く、効率的、経済的に製造することができるだけでなく、成形品の表皮層の厚さおよび成形品の発泡倍率を容易に制御することができる。

英訳文:

The foam-injection molding method of the present invention is advantageous not only in that a molded article which exhibits excellent reproduction of the morphology of the inner wall of the mold cavity and which has both a non-foamed surface skin layer and a highly foamed interior portion can be produced with excellent reproducibility and high efficiency and economically, but also in that the thickness of the surface skin layer and the expansion ratio of the molded article can be easily controlled. The foam-injection molding method of the present invention can provide various excellent foam-injection molded articles of a thermoplastic resin at a low cost.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明は、複合色素及びn型半導体を包含する光電変換素子であって、該複合色素は、互いに 異なる励起準位を有する複数の成分色素が互いに化学結合されてなり、それにより、電子移動用の直鎖又は枝分かれ構造体を形成し、該直鎖又は枝分かれ構造体は一端において該n型半導体に保持され、他端は自由端であり、その励起準位が該直鎖又は枝分かれ構造体の上記のn型半導体に保持された端部から、上記の自由端に向かって減少する順序で配列されていることを特徴とする光電変換素子に関する。

英訳文:

The present invention is concerned with a photoelectric conversion element comprising a composite dye and an n-type semiconductor, the composite dye comprising a plurality of component dyes which have different excitation levels and which are chemically bonded to each other to form a straight chain or branched structure for transferring an electron therethrough, wherein the straight chain or branched structure is, at one end thereof, secured to the n-type semiconductor and has, at least at one other end thereof, a free end, and wherein the plurality of component dyes are arranged in an order such that the excitation levels of the plurality of component dyes are decreased as viewed from the one end of the structure toward the at least one other end of the structure.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明の光電変換素子は、光電変換性能に優れ、特に、太陽エネルギーからのエネルギー取り 出し効率(エネルギー変換効率)が高く、また、それを用いて簡便に色素増感型太陽電池を製造 することができるので、色素増感型太陽電池などに有利に用いられる。

英訳文:

The photoelectric conversion element of the present invention exhibits excellent photoelectric conversion properties, especially high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency), and a dye sensitized solar battery can be easily produced therefrom. Therefore, the photoelectric conversion element of the present invention can be advantageously used for a dye sensitized solar battery and the like.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

文明社会はエネルギーの消費によって成立するが、そのエネルギーの大部分は、自然が長年か けて太陽光エネルギーを蓄えた化石燃料に由来する。近年、その化石燃料の減少やその燃焼に よる地球温暖化問題が、人類社会の持続的発展の足かせとなる危惧が高まっている。 これらの問題を解決するために、太陽エネルギーから直接エネルギーを取り出す研究開発が盛 んに行われている。これらの中で、太陽電池は太陽エネルギーからのエネルギー取り出し効率 (エネルギー変換効率)が高いため多くの研究が為されている。とりわけ、色素に代表される光 増感剤を用い、その励起電子を効率よく取り出すことが可能な色素増感型太陽電池は、Michae l Gratzel等によって、エネルギー変換効率が7%を超えるシステムが発表(Nature 1991,353,737参照)されて以来、複雑な製造工程を経ず、安価に製造できる次世代の太陽 電池として注目を集めている。

英訳文:

Consumption of energy is indispensable to civilized society. Most of the energy which is consumed by civilized society is derived from fossil fuels, in which sunray energy has been accumulated over many years. In recent years, the problem that the amount of fossil fuels available is being reduced and the problem that the burning of fossil fuels causes global warming have arisen, and there is an increasing fear that these problems will be obstacles to the sustainable development of human society. For solving the above-mentioned problems, various studies have been made to directly utilize sunray energy. Among these studies, the studies on solar batteries have been vigorously made, because solar batteries exhibit high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency). Among the solar batteries, special attention has been paid to a dye sensitized solar battery, which uses a photosensitizer, such as a dye, and which is capable of efficiently taking out electrons from the photosensitizer by the irradiation of the photosensitizer with sunray. Specifically, since Michael Gratzel et al. reported a system which uses a dye sensitized solar battery having an energy conversion efficiency of more than 7 % (see Nature 1991, 353, 737), a dye sensitized solar battery has drawn special attention as the next generation solar battery which can be produced at a low cost without use of a complicated method.

分野 : 鉄鋼技術、機械 (英和)

原文:

A production line for manufacturing hot steel strips from two casting lines (a, b) for thin slabs of thickness < 100 mm, only one of which (a) is aligned with a rolling line (e, g) characterized by comprising superimposed heating furnaces with mandrel (Al, A.2; Bl, B2), one pair on line (a) and one on line (b) respectively, both provided with internal mandrel to allow winding/unwinding steps of pre-strips having thickness lower than 30 mm, further comprising a bypass length (d) between said two furnaces (Al, A2) for the endless rolling in a finishing rolling mill (g) through a roller path (e), and a transverse path (k.) for transferring said pair of furnaces (Bl, B2) from line (b) to line (a) fox the production of single strips, there being provided an induction furnace (f) downstream of said heating furnaces with mandrel and immediately upstream of said finishing rolling mill (g).

和訳文:

熱間鋼帯を製造するための製造ラインであって、厚み100mm未満の薄いスラブ製造用の2つの鋳造ライン(a)及び(b)、該鋳造ライン(a)と直列に配置されてなる、ローラーコンベア(e)及び仕上用圧延機(g)を含む圧延ライン、上下に重なり合った加熱炉(A1)及び(A2)であって、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、該鋳造ライン(a)に設けられた加熱炉(A1)及び(A2)、上下に重なり合った加熱炉(B1)及び(B2)であって、該鋳造ライン(b)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、鋳造ライン(b)に設けられた加熱炉(B1)及び(B2)、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブを、ローラーコンベア(e)を介して仕上用圧延機(g)で連続的圧延に付すためのバイパス経路(d)であって、加熱炉(A1)と(A2)との間に設けられたバイパス経路(d)、加熱炉(B1)及び(B2)を、鋳造ライン(b)から鋳造ライン(a)に移動するための横断経路(k)、及びマンドレルを有する該加熱炉の下流であって、該仕上用圧延機(g)の直上流に設けられた誘導炉(f)、を含むことを特徴とする製造ライン。

タグ:

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Divisional Application

Q1. Is it possible to file a divisional application from a pending Japanese patent application?

A1.  A divisional application can be filed from a pending Japanese patent application, but periods for filing a divisional application depends on the filing date of the parent application.

 Divisional application from a parent application filed on or before March 31, 2007 can be filed: 

  (1) any time until the 1st Office Action is issued by the Patent Office,

  (2) within a period for filing a response to an Office Action, and

  (3) simultaneously with the filing of a Notice of Appeal.

 Divisional application from a parent application filed on or after April 1, 2007 can be filed: 

  (1) any time until the 1st Office Action is issued by the Patent Office,

  (2) within a period for filing a response to an Office Action,

  (3) within a period when a Notice of Appeal can be filed against the Decision for Rejection (*note that a divisional application can be filed within this period even without the actual filing of a Notice of Appeal or even after the filing of the Notice of Appeal), and

  (4) within 30 days from the issuance of a Decision to Grant.

Q2. Our patent application in Japan was granted as a result of an Appeal against the Decision for Rejection.  Is it possible to file a new divisional application from the granted patent application?

A2.  No.  Regardless of the filing date of the parent application, when an Appeal is filed, a divisional application cannot be filed any longer after the final decision.

Q3. Is the filing of only claims sufficient for filing a divisional application?

A3.  Not only claims, but the whole specification including drawings and sequence listing (if any) is required.  Further, filing of an explanatory Written Statement on the divisional application for explaining (1) supports for the claims, and (2) differences between the parent application and the present divisional application is required by the Japan Patent Office. 

Q4. Is it acceptable to first file a divisional application with the same claims as the patent application and then later amend the claims? 

A4.  Yes, it is acceptable as long as the claims are to be amended later during the prosecution of the divisional so as not to overlap with those of the parent because no double patenting is permitted. 

The Applicant is requested to file a Written Statement for explaining how the divisional differs from the parent, etc.   The Statement should be filed earlier than or simultaneously with the filing of a request for examination.

Further, in the case of a divisional application from a parent application filed on or after April 1, 2007, the claims of such a divisional application (which may be submitted as amendment after filing of the divisional) should be drafted so as to remove all of the reasons for rejection issued against the parent.  When the examiner finds that the claims of the divisional can be rejected on the same ground as the parent, the first Notice of Rejection is made final, and permissible claim amendments are restricted as in the case of the "amendment after final Rejection".  Please see item “Restriction to Permissible Claim Amendments After Final Rejection” for more details.

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application  or  be  patent  Japan  an  Patent  Japanese  not  filing  with  filed  Final  claim  Action  period  Office  date  at  final  present  after  claims  any  Appeal  Notice  new  grant  request  examination  Rejection  file  only  case  within  such  use  divisional  issue  may  Statement  we  more  should  under  specification  than  between  made  all  but  Act  same  amendment  Decision  was  A2  A1  against  so  amendments  ex  possible  Grant  time  required  even  re  parent  granted  month  end  rejection  without  After  Q2  Q1  cannot  Applicant  April  before  Further  issued  etc  long  out  including  simultaneously  first  whole  because  double  during  prosecution  Yes  differences  do  permissible  year  Q3  A3  days  response  ep  those  later  drawings  Please  issuance  Claim  reason  reasons  who  Q4  details  difference  Reg  A4  Restriction  decision  patenting  rejected  her  per  pending  see  am  item  acceptable  drafted  Permissible  his  result  March  Divisional  submitted  require  ratio  amended  act  less  specific  Amendments  draft  how  day  ended  exam  Division  1st  Amendment  able  Written  actual  amend  late  restricted  requested  until  up  over  reject  support  sufficient  submit  ground  then  note  State  Re  list  red  periods  permitted  fr  depends  ed  find  earlier  explaining  explanatory  drawing 

Design Registration

Q1. If a design application is to be filed in Japan claiming Convention Priority based on a non-Japanese application, is the priority period one year as in patent applications? 

A1.  No. For filing design applications in Japan claiming Convention priority, the priority period is for six (6) months, instead of one year, from the filing of the priority application.  Even if you have a design "patent" application filed at the USPTO, the priority period is 6 months for filing a Japanese patent application with a valid priority claim based on the degisn "patent" application filed in the US.  

You also have to be careful when filing a patent application in Japan claiming priority from both a patent application and a design application.  That is, for example, if you filed in your country a patent application on May 1, 2012 and a design application on October 30, 2012 and are now considering filing a patent application on May 1, 2013 in Japan claiming priority from both of the above-mentioned patent application and design application filed in your country, this date “May 1, 2013” is within one-year priority period based on the patent application but is after the expiration of six-month priority period (October 30, 2012 + 6 months = April 40, 2013) based on the design application.  Therefore, the priority claim based on the design application is not valid.  

Q2. I am planning to file a design patent application in Japan claiming priority from a US design patent application.  What are the major differences in practice between the United States and Japan that require particular attention?

A2.  Firstly, unlike the “design patent” in the United States which is one type of patents and is basically dealt with under the patent law, Japan has a design law separate from a patent law. 

Therefore, in Japan, an application for registration of a design is referred to as “design application”, not “design patent application” as in the United States.  

More importantly, this difference in legal system leads to some significant differences in design registration practice between the US and Japan representative examples of which are enumerated below.

Difference 1)  “Single design per application” system in Japan

It is understood that the US system allows an applicant to pursue two or more designs (embodiments) of a single inventive concept in a single design patent application.  This, however, is not the case in Japan.  According to the Japanese practice, each design application may include only a single design of single shape.

Therefore, in Japan, when a single priority application includes multiple designs, it is necessary to either:

-  file separate design applications with respect to the different designs, or

-  file an application including different designs and later file a divisional application(s).

In this connection, however, it should be noted that it is not allowed to file a divisional application on a “partial” design from a “whole” design application and vice versa.  Concerning the “partial” and “whole” designs, explanations are made below.

Further, there is an exception to the "single design per application" system, and the Japan's Design Law provides "related design" system for covering a plurality of similar designs.

1-1) Exception to the “single design per application” rule

The Japan’s Design Law exceptionally allows for discrete objects to be claimed in a single application if common sense indicates that such discrete objects are usually sold as a “set”, as in the case of, for example, a 3-piece set including a knife, fork and spoon. 

1-2) Related design applications

In the case where the priority US application contains a plurality of different but similar designs (e.g., minor variations of a certain design), such similar designs may be covered by utilizing the related design system in Japan.  Specifically, the similar designs can be covered by filing a principal design application and filing a related design application(s) by one day prior to the publication of the principal design. 

The design registered as the related design can be enforced independently of the registered principal design and other registered related design(s).  That is, a related design right can cover even a design similar to that related design, which, however, is not similar to the principal design. 

For covering such similar designs under the related design regime, it is possible to either:

-  file a principal design application and also file a related design application(s) simultaneously with the principal application or later (by one day prior to the publication of the principal design at the latest), or

-  file general design applications on the similar designs, and later amend the general applications into a principal design application and a related design application(s).

The JPO may find that the designs are not similar enough to be eligible for registration under the related design regime but there is no need to be so nervous about this point.  If the JPO denies the similarity, the JPO will issue an office action requesting the applicant to stop relying on the related design system and change the applications to normal applications.

 

Finally, the right of a registered related design is independent from the right of a registered principal design but there are the following exceptions.

1.   Synchronized protection term: 

The protection term for both of a registered principal design and a registered related design is 20 years from the registration date of the principal design.  This point, however, is substantially immaterial in the present case because the two applications will probably be registered almost simultaneously.  Further, the registered related design can be maintained even if the principal design is allowed to lapse due to non-payment of maintenance fee, and vice versa.   

 2.   Restriction of transfer of rights and licensing: 

The right of a registered related design cannot be transferred or licensed independently from the registered principal design.  That is, for transfer of design rights to a third party by assignment etc., the principal and related designs must be simultaneously transferred together to the same entity.  Further, also for licensing, the principal and related designs must be licensed simultaneously to the same entity.

 

Difference 2)  Partial Design System

The Japan’s Design Law has a “partial design system” which allows registration of parts of shapes or forms with distinct characteristics.  

The US system also provides a similar practice where dotted lines can be used to indicate non-claimed parts.  There is, however, one important difference.  That is, the Japan’s system requires that a partial design application should be filed with a clear indication that the application claims a partial design.  In the absence of such indication, the application will be recognized as claiming a whole design. 

Once filed with the indication of a partial design application, it is in principle not allowed to amend the application into a whole design application and vice versa.  Similarly, a divisional application on a partial design cannot be filed from a whole design application and vice versa. 

Therefore, if it is important to cover both of whole and partial designs, it is recommended to file both a whole design application and a partial design application.

 

Of course, there are many other differences between US and Japanese practices; however, the above differences are believed to be the main differences which require particular attention when filing a design application in Japan claiminig priority from a US design patent application.

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Patent Prosecution Highway (PPH) Program

Q1. Is a prosecution under the Patent Prosecution Highway (PPH) program*1 available in Japan?

A1.  Yes.  The PPH programs have been implemented between the Japan Patent Office (JPO) and the Patent Offices of the following countries (as of August 2012):  Austria, Canada, China, Denmark, EPO, Finland, Germany, Hungary, Iceland, Israel, Korea, Mexico, Norway, Philippines, Portugal, Russia, Singapore, Spain, Taiwan, the United Kingdom, and the United States. 

The JPO also implements the PPH MOTTAINAI pilot program*2 with the following countries (as of August 2012):  Australia, Canada, EPO, Finland, Russia, Spain, United Kingdom, and United States.

*1 The PPH program is a framework in which a patent application with claims determined to be patentable by the Office of First Filing is eligible to go through an accelerated examination in the Office(s) of Second Filing, upon the applicant’s request.

*2 The PPH MOTTAINAI pilot program is a PPH program which enables an applicant to make PPH requests at the Office of Later Examination (OLE) by relying on the examination results of the Office of Earlier Examination (OEE), provided that the OEE and OLE have a PPH MOTTAINAI agreement.  In this program, OEE may not be the Office of First Filing, and accelerated examination can be filed based on the examination results of the Office(s) of Second Filing.

Q2. What are the documents necessary for filing a request for an accelerated examination under the PPH program in Japan?

A2.  Documents necessary for filing a request for an accelerated examination under the PPH program in Japan include:

(1)  Request for Accelerated Prosecution under PPH Program;

(2)  Amendment for bringing the Japanese claims in conformity with the claims allowed by the participating patent office other than the JPO (if necessary);

(3)  Table showing the relationship between the (amended) claims of the Japanese application and the allowed claims mentioned in (2);

(4)  All Office Actions issued by the participating patent office (omissible if available via an online file inspection sysmtem provided by the patent office);

(5)  Non-patent documents cited in the Office Action issued by the participating patent office (filing of patent documents is not required);

(6)  Copy of the allowed claims (omissible if available via an online file inspection system provided by the patent office); and

(7)  Japanese or English translations of documents (4) and (6) above when these documents are not in English.

Documents (1) to (3) must be prepared in Japanese.  Although some or all of the information included in items (4), (5) and (6) may be omitted, we usually request the applicant to provide us with such information since it is generally useful for preparing the Japanese language documents (1) to (3).

Q3. Is it possible to request an accelerated examination based on the PCT international work products?

A3.  The JPO has commenced the PPH programs based on the PCT international work products (PCT-PPH) on pilot basis.  According to current schedule (as of August 2012), this program will continue until January 28, 2014.  Participating in PCT-PPH (as of August 2012) are the following 14 countries and organizations: China, Denmark, the EPO, Finland, Iceland, Korea, Mexico, the Nordic Patent Institute, Norway, Philippines, Portugal, Spain, Sweden and the United States.

Under the PCT-PPH programs, an accelerated examination can be requested in Japan using search and examination results (namely, written opinion or international preliminary examination report (IPER)) established by the International Searching Authorities (WO/ISA) or International Preliminary Examining Authorities (WO/IPEA) of the above-mentioned countries or organizations when any one of the examination results indicate that at least one of the claims has novelty, inventive step and industrial applicability.

Detailed requirements for filing a request for PCT-PPH may vary depending on which country's ISA or IPEA has carried out search.  Therefore, please let us know if you are interested in PCT-PPH and need more information.

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PCT  PPH  EPO  application  or  be  patent  Japan  an  JPO  Patent  Japanese  not  filing  with  ISA  filed  claim  Action  Office  EP  date  Examination  at  Request  one  art  claims  any  has  search  office  request  above  examination  epo  file  report  been  Inter  such  use  other  issue  IP  may  will  system  we  more  documents  under  than  between  mentioned  results  all  Act  must  necessary  also  IPEA  inter  through  information  based  A2  go  requirement  A1  translations  applicant  step  agreement  program  so  ex  possible  following  What  required  re  month  end  MOTTAINAI  Q2  Q1  English  national  accelerated  form  prepared  using  issued  International  Therefore  general  out  international  need  United  Ex  many  Search  Program  Accelerated  prosecution  provide  Yes  allowed  least  Part  do  provided  year  Q3  August  A3  States  usually  requirements  translation  some  ep  carried  make  upon  include  IPE  available  document  cited  determined  Filing  country  basis  countries  these  preliminary  Prosecution  name  pilot  her  pending  Document  IPER  Table  am  sea  item  inventive  work  product  term  his  result  novelty  Preliminary  useful  trial  via  Non  products  inspection  preparing  depending  require  amended  ability  allow  Second  place  There  omitted  part  pain  showing  she  how  First  day  ended  continue  exam  established  Finland  Highway  According  Amendment  China  Authorities  able  OEE  Spain  amend  language  vary  requested  since  show  until  up  participating  programs  omissible  please  novel  now  Singapore  State  Re  organizations  Russia  man  low  mm  Under  WO  Unit  Korea  Kingdom  relation  High  Iceland  January  red  Institute  Mexico  OLE  patentable  Philippines  Portugal  Norway  Nordic  framework  fr  current  generally  eligible  establish  enables  ed  ip  invent  inform  indicate  online  All  Although  Documents  try  Examining  Canada  Detailed  Australia  Denmark  way  relying 


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