covered

Exceptions to Lack of Novelty of Invention

Q1. We understand that Japan has a grace period for avoiding certain public disclosures from constituting prior art against a Japanese application.  How long is this grace period?

A1.  The grace period defined under Article 30 of the Japanese patent law (Exceptions to Lack of Novelty of Invention) is 6 months from the date of public disclosure.

Q2. What type of disclosures is capable of taking advantage of the Exceptions to Lack of Novelty of Invention in Japan?

A2.  According to current Article 30 of the Japanese patent law (effective as of April 1, 2012), virtually any disclosure, including “inventions made public at meetings and seminars, which are not academic conference designated by the Commissioner of the Patent Office, inventions made public on TV and radio, and inventions made public through sales”, are covered by the Exceptions to Lack of Novelty of Invention.  However, a patent publication is not a non-prejudicial disclosure.

Q3. Is the grace period applicable to scientific articles published on the web? 

A3.  The 6-month grace period is also applicable to electronic publications of scientific articles.  When a scientific article is published in the form of an electronic publication in advance to the publication in print, the 6-month grace period will start from the date of the electronic publication.  This rule applies not only to a free electronic publication, but also to an electronic publication which requires registered membership and/or purchase of the publication for accessing the electronic publication.

Q4. An invention has been published as a scientific article and a basic patent application has been filed in the US within 6 months from the publication of the scientific article.  Already 10 months have passed from the publication of the scientific article, but is it still possible to enjoy the benefit of the Japanese 6-month grace period by filing a Japanese patent application claiming the Paris convention priority from the basic US application filed within 6 months from the publication date? 

A4.  No.  Claiming of the Paris convention priority does not allow the filing date in Japan to date back for the purpose of grace period.  In other words, when a basic application is filed in other country within 6 months from the date of public disclosure, and a Japanese patent application claiming the convention priority from the basic application is filed after the expiration of the 6-months grace period, the Japanese patent application cannot enjoy the benefit of the grace period.

For receiving the benefit of the 6-month grace period in Japan, the Applicant must file within the 6-month grace period either one of the following applications:

   (1) Japanese national patent application*, or

   (2) PCT application designating Japan as one of the designated states. 

* Either a Japanese patent application or a PCT application claiming the convention priority from this Japanese patent application can be filed after the expiration of the grace period and still enjoy the benefit of the grace period.

Q5. What are the steps necessary for obtaining the benefit of the Japanese 6-month grace period?  

A5.  Necessary steps are explained separately for Japanese national patent application and PCT application.

Japanese national patent application:

A patent application is filed simultaneously with a Request for Grace Period within 6 months from the date of public disclosure.  Alternatively, the Request may be omitted by stating such effect in the patent application.

Next, a Document Verifying the Request, which is signed by all applicants, is filed within 30 days from the filing date of the patent application.  Filing of a specific evidence material (such as a copy of the scientific article disclosing the invention) is not required, but it is most advisable to file the evidence material with the Document.

PCT application designating Japan:

When a PCT application designating Japan as one of the designated states is filed within the 6 month grace period, such a PCT application will obtain the benefit of the grace period even when the PCT application enters the Japanese national phase after the expiration of the grace period (i.e., within non-extensible 30 month deadline).  In this case, both the Request for Grace Period and the Document Verifying the Request are filed within 30 days from the entry into the Japanese national phase. 

[Filing of the Request for Grace Period can be omitted when “Declaration as to Non-Prejudicial Disclosures or Exceptions to Lack of Novelty” (PCT Rule 4.17(v), 26ter.1) is made at the international stage.]

The Document Verifying the Request can be prepared at our end and forwarded for execution by the applicant(s). 

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米国:USPTOが、最終的なAIA施行規則の一部を公表(2)

について、2012916日から施行される予定となっている制度に関する最終的な施行規則を段階的に公表しておりましたが、2012814日に残りの施行規則を公表しました。

当事者系レビュー付与後異議申立、ビジネス方法特許のための暫定プログラム

AIAにより新たに導入され、2012年9月16日から施行開始される、特許付与後の当事者系審判の手続きに関する最終的な施行規則が公表されました。ここで言う当事者系審判手続きとは、以下の三種類の手続きを含みます:

当事者系レビュー(Inter partes review);

付与後異議申立(Post grant review);及び

ビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)。

具体的な施行規則は以下からご覧頂けます。

- 77 Fed. Reg. 48,612 (“Rules of Practice for Trials Before the Patent Trial and Appeal Board and Judicial Review of Patent Trial and Appeal Board Decisions”)

- 77 Fed. Reg. 48680 (“Changes to Implement Inter Partes Review Proceedings, Post-Grant Review Proceedings, and Transitional Program for Covered Business Method Patents”)

- 77 Fed. Reg. 48734 (“Transitional Program for Covered Business Method Patents—Definitions of Covered Business Method Patent and Technological Invention”)

- 77 Fed. Reg. 48756 (“Office Patent Trial Practice Guide”)

この最終施行規則には、各手続きの申請に関する時期的制約、申請のための条件や申請の受理基準、審理の具体的な手順、ディスカバリーの基準や手順などが定められています。

上記の3種類の審判手続きは、いずれも大いに利用価値がありそうですが、米国特許庁に支払う手数料が非常に高額であることがネックになることが予想されます。これらの審判手続きについて、以下に簡単に概要を説明しておきます。

当事者系レビュー(Inter partes review

これは従来の当事者系再審査(Inter Partes Reexamination)に代わる手続。

当事者系レビューは、特許付与後9ヶ月以降又は付与後異議申立手続き(Post-grant Review)の終了時のいずれか遅い方から、特許存続期間中であれば申請可能。この申請可能時期と、申請理由が先行技術に基づく新規性違反(102条)、自明(103条)のみに制限されること以外は、当事者系レビュー(Inter Partes Review)のルールは、付与後異議申立て(Post-grant Review)と類似。

当事者系レビュー(Inter Partes Review)を申請した場合、米国特許庁に申請が受理されて再審査が開始されるための基準は、再審査請求対象のクレームのうち、少なくとも1つが無効であることが合理的に見込めるかreasonable likelihood that the petitioner would prevail with respect to at least 1 of the claims challenged)ということである。

米国特許庁に支払う手数料は、クレーム数20まで$27,200(約220万円)であり、クレーム数21以上の場合の追加料金が1クレーム毎に$600。尚、2012年9月6日に、これを約15%程度低減する案が公表されている。

付与後異議申立(Post grant review)

欧州における異議申立て制度に類似した制度。特許許可後9ヶ月以内に申請が可能で、広範な理由に基づいて無効を主張することができる。

以下のいずれか又は両方の条件を満たす場合に異議申立てが認められる。

- 異議申立て申請書が、特許の少なくとも1つのクレームが無効である可能性が有効である可能性よりも高いことを示していると認められる場合(the petition demonstrates that it is “more likely than not” that at least one claim of the challenged patent is unpatentable.)

- 他の特許や特許出願にも重要な影響を及ぼす新規又は未解決の法的問題を提起する場合(the petition “raises a novel or unsettled legal question that is important to other patents or patent applications.”)

米国特許庁に支払う手数料は、クレーム数20まで$35,800(300万円弱)であり、クレーム数21以上の場合の追加料金が1クレーム毎に$800。尚、2012年9月6日に、これを約15%程度低減する案が公表されている。

ビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)


新法(AIA)では、ビジネス方法特許に対して第三者が付与後異議申立をできることとなったが、この異議申立手続は「対象となるビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)」として施行さる。この手続は、その名の通り、2020年9月16日までの暫定的なもの。

最終規則 77 Fed. Reg. 48734 (August 14, 2012)では対象となる発明が次の様に定義されている:「金融商品やサービスの実施、運営または管理に用いられる、データ処理その他の操作を行うための方法若しくは対応する装置を請求する特許であって、技術的発明に関する特許は含まない」。ここで、対象に含まれない「技術的発明」については、「請求された主題が、全体として先行技術に対して新規且つ非自明の技術的特徴であり、技術的解決手段をもって技術的課題を解決する」発明とされているが、詳細な定義は示されておらず、ケース・バイ・ケースで判断される。

手続きなどに関する通常の付与後異議申立との相違点は以下の通り:

1) 異議申立を申請できる者: 通常の付与後異議申立においては、特許権者以外誰でも申請できるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」においては、申請できるのは侵害を訴えられているなど特定の要件を満たす利害関係者のみ。

2) エストッペル(禁反言): 通常の付与後異議申立手続では、そこで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に判断できる根拠に基づく主張については、エストッペル(禁反言)によって後の訴訟などの手続きで同様の主張をすることは禁止されるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」においては、エストッペルの対象となるのは、実際に異議申立で主張した根拠のみ。

3) 申請時期: 通常の付与後異議申立手続では、許可後9ヶ月以内に申請する必要があるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」は、許可になった後、何時でも申請することができる。

補充審査(Supplemental examination)

補充審査(Supplemental examination)に関する最終規則は、77 Fed. Reg. 48828 (August 14, 2012)として公開されました。具体的な施行規則は以下からご覧頂けます。

http://www.gpo.gov/fdsys/pkg/FR-2012-08-14/pdf/2012-17917.pdf

補充審査制度においては、IDSとして提出し忘れた情報が有っても、その情報を提出しなかったことが情報開示義務違反に当たるかを特許庁に判定してもらい、もし違反に当たるようならば、当該情報に関する再審査を請求できるようになりました。

情報開示義務違反(Inequitable Conduct)回避のための新たな手続きとして注目されている補充(補足)審査(Supplemental Examination)制度ですが、こちらも非常に高額な費用設定となっています。具体的には、補充審査(Supplemental Examination)請求時に米国特許庁に対して支払う手数料は、$21,260 [*内訳: 補充審査(Supplemental Examination)請求 $5,140 + 査定系再審査(ex parte reexamination)請求 $16,120]であり、査定系再審査が不要となった際("substantial new question of patentability"が無いと判断された場合)には、査定系再審査(ex parte reexamination)費用$16,120が払い戻されるということになっています。尚、こちらについても、2012年9月6日に、これを約15%程度低減する案が公表されています。

発明者の宣誓書、宣言書(Inventor's oath or declaration)

発明者の宣誓書、宣言書に関するプラクティスが大きく変わります。これについての最終規則は、77 Fed. Reg. 48776 (August 14, 2012)として公開されました。

http://www.gpo.gov/fdsys/pkg/FR-2012-08-14/pdf/2012-17907.pdf

旧法下では、常に発明者が出願人であり、日本でPCT出願する際の願書にも、発明者が米国では出願人でもある旨を明示する必要がありましたが、新法(AIA)により、譲渡人が出願人として特許出願を行うことができることになりました。譲渡人が出願された場合である場合でも、原則的に発明者の宣誓書または宣言書の提出が要求されますが、要件がかなり緩和されました。また、発明者が署名できない場合や署名に同意しない場合に、事情説明などを含む陳述書で代用できることとなりました。このような陳述書は、発行手数料の支払前までであれば提出できます。

また、上記の変更を受けて、2012年9月16日以降のPCT国際出願の願書において、発明者を指定国米国における出願人とする必要がなくなりました。この点については、日本特許庁のホームページにおいて具体的な説明がなされています。詳細については、以下のリンク先をご覧下さい。

http://www.jpo.go.jp/cgi/link.cgi?url=/tetuzuki/t_tokkyo/kokusai/usa_kaisei_pct.htm

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Design Registration

Q1. If a design application is to be filed in Japan claiming Convention Priority based on a non-Japanese application, is the priority period one year as in patent applications? 

A1.  No. For filing design applications in Japan claiming Convention priority, the priority period is for six (6) months, instead of one year, from the filing of the priority application.  Even if you have a design "patent" application filed at the USPTO, the priority period is 6 months for filing a Japanese patent application with a valid priority claim based on the degisn "patent" application filed in the US.  

You also have to be careful when filing a patent application in Japan claiming priority from both a patent application and a design application.  That is, for example, if you filed in your country a patent application on May 1, 2012 and a design application on October 30, 2012 and are now considering filing a patent application on May 1, 2013 in Japan claiming priority from both of the above-mentioned patent application and design application filed in your country, this date “May 1, 2013” is within one-year priority period based on the patent application but is after the expiration of six-month priority period (October 30, 2012 + 6 months = April 40, 2013) based on the design application.  Therefore, the priority claim based on the design application is not valid.  

Q2. I am planning to file a design patent application in Japan claiming priority from a US design patent application.  What are the major differences in practice between the United States and Japan that require particular attention?

A2.  Firstly, unlike the “design patent” in the United States which is one type of patents and is basically dealt with under the patent law, Japan has a design law separate from a patent law. 

Therefore, in Japan, an application for registration of a design is referred to as “design application”, not “design patent application” as in the United States.  

More importantly, this difference in legal system leads to some significant differences in design registration practice between the US and Japan representative examples of which are enumerated below.

Difference 1)  “Single design per application” system in Japan

It is understood that the US system allows an applicant to pursue two or more designs (embodiments) of a single inventive concept in a single design patent application.  This, however, is not the case in Japan.  According to the Japanese practice, each design application may include only a single design of single shape.

Therefore, in Japan, when a single priority application includes multiple designs, it is necessary to either:

-  file separate design applications with respect to the different designs, or

-  file an application including different designs and later file a divisional application(s).

In this connection, however, it should be noted that it is not allowed to file a divisional application on a “partial” design from a “whole” design application and vice versa.  Concerning the “partial” and “whole” designs, explanations are made below.

Further, there is an exception to the "single design per application" system, and the Japan's Design Law provides "related design" system for covering a plurality of similar designs.

1-1) Exception to the “single design per application” rule

The Japan’s Design Law exceptionally allows for discrete objects to be claimed in a single application if common sense indicates that such discrete objects are usually sold as a “set”, as in the case of, for example, a 3-piece set including a knife, fork and spoon. 

1-2) Related design applications

In the case where the priority US application contains a plurality of different but similar designs (e.g., minor variations of a certain design), such similar designs may be covered by utilizing the related design system in Japan.  Specifically, the similar designs can be covered by filing a principal design application and filing a related design application(s) by one day prior to the publication of the principal design. 

The design registered as the related design can be enforced independently of the registered principal design and other registered related design(s).  That is, a related design right can cover even a design similar to that related design, which, however, is not similar to the principal design. 

For covering such similar designs under the related design regime, it is possible to either:

-  file a principal design application and also file a related design application(s) simultaneously with the principal application or later (by one day prior to the publication of the principal design at the latest), or

-  file general design applications on the similar designs, and later amend the general applications into a principal design application and a related design application(s).

The JPO may find that the designs are not similar enough to be eligible for registration under the related design regime but there is no need to be so nervous about this point.  If the JPO denies the similarity, the JPO will issue an office action requesting the applicant to stop relying on the related design system and change the applications to normal applications.

 

Finally, the right of a registered related design is independent from the right of a registered principal design but there are the following exceptions.

1.   Synchronized protection term: 

The protection term for both of a registered principal design and a registered related design is 20 years from the registration date of the principal design.  This point, however, is substantially immaterial in the present case because the two applications will probably be registered almost simultaneously.  Further, the registered related design can be maintained even if the principal design is allowed to lapse due to non-payment of maintenance fee, and vice versa.   

 2.   Restriction of transfer of rights and licensing: 

The right of a registered related design cannot be transferred or licensed independently from the registered principal design.  That is, for transfer of design rights to a third party by assignment etc., the principal and related designs must be simultaneously transferred together to the same entity.  Further, also for licensing, the principal and related designs must be licensed simultaneously to the same entity.

 

Difference 2)  Partial Design System

The Japan’s Design Law has a “partial design system” which allows registration of parts of shapes or forms with distinct characteristics.  

The US system also provides a similar practice where dotted lines can be used to indicate non-claimed parts.  There is, however, one important difference.  That is, the Japan’s system requires that a partial design application should be filed with a clear indication that the application claims a partial design.  In the absence of such indication, the application will be recognized as claiming a whole design. 

Once filed with the indication of a partial design application, it is in principle not allowed to amend the application into a whole design application and vice versa.  Similarly, a divisional application on a partial design cannot be filed from a whole design application and vice versa. 

Therefore, if it is important to cover both of whole and partial designs, it is recommended to file both a whole design application and a partial design application.

 

Of course, there are many other differences between US and Japanese practices; however, the above differences are believed to be the main differences which require particular attention when filing a design application in Japan claiminig priority from a US design patent application.

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米国(5.2): 特許の取消し・無効を請求する手続き[付与後異議(Post-grant review)等]

付与後異議申立(Post-Grant Review)と当事者系レビュー(Inter Partes Review)の比較

 

付与後異議申立(Post-Grant Review) 当事者系レビュー(Inter Partes Review)
申請時期 許可後9ヶ月以内 次の時期の内、いずれか遅い方:許可から9ヶ月経過後、若しくは付与後異議申立が終結した日
無効理由 ベストモード以外の35 U.S.C. § 282に記載された無効理由全て 特許又は刊行物に基づく新規性・自明性(35 U.S.C. § 102 及び 103)の欠如
申請を受け付ける基準 無効である可能性が有効である可能性よりも高いことを示していると認められる(無効の見込み確率が50%を超える);又は

重要な新規又は未解決の法的問題を提起する
無効であることが合理的に見込める(無効の見込み確率が50%を含む)
申請人の特定 必要(匿名不可) 必要(匿名不可)
後の訴訟手続きなどにおけるエストッペル(禁反言) 本手続きで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に考えられる根拠は、後の手続きで採用不可 本手続きで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に考えられる根拠は、後の手続きで採用不可
USPTOにおける担当部署 審判部(Patent Trial and Appeal Board 審判部(Patent Trial and Appeal Board
ディスカバリー(開示手続き) 当事者が提示した事実主張に直接関連するもの 宣誓供述書又は宣言書を提出する証人の証言録取書並びに、その他、公正な判断のために必要なもの
決定までに要する期間 12~18ヶ月 12~18ヶ月
決定に対する控訴 両当事者のいずれもが、連邦巡回区控訴裁判所(CAFC)に控訴可能 両当事者のいずれもが、連邦巡回区控訴裁判所(CAFC)に控訴可能
政府料金(USPTOに支払う手数料)

$30,000

(クレーム数15以下で、申請が認められた場合)

$23,000

(クレーム数15以下で、申請が認められた場合)

 

特許付与後異議関連手続きの料金

AIAにより導入される付与後異議申立て(Post-grant review)、当事者系レビュー(Inter Partes Review)については、2013年1月18日に最終的な料金(USPTOに支払う手数料)が公表されました。上の表においては、クレーム数15で、手続きの申請が認められた場合を仮定した料金を示しましたが、具体的な料金体系は以下の通りとなっています。


手続きの種類

 

料金

付与後異議申立(Post-Grant Review)又は一部のビジネス方法特許レビュー(Covered Business Method Patent Review)  申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$250)

$12,000

申請が認められた後に支払う手数料

クレーム数15まで(15を超えたクレーム毎の追加手数料$550)

$18,000

当事者系レビュー(Inter Partes Review) 申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$200)

$9,000

申請が認められた後に支払う手数料

クレーム数15まで(15を超えたクレーム毎の追加手数料$400)

$14,000

 

他者の特許を無効化する為に査定系(Ex Parte)再審査を選択することのメリット

査定系(Ex Parte)再審査は、他の当事者系の手続きと比較して、特許権者以外の申請人の関与が大幅に制限されるため、他者の特許を無効に出来る確率の観点からは、当事者系の手続きの方が効果的と言えます。しかし、査定系(Ex Parte)再審査には、当事者系の手続きと比較して、色々な面で申請する側の負担が少ないというメリットがあります。具体的には、以下のようなメリットが挙げられます。

① 特許後、何時でも申請できる。

② 匿名で申請できる。

③ 当事者系手続きと比較して費用が安い(USPTOに支払う手数料は、$12,000)。

そして、②の匿名で申請できるということに関連するメリットとして、匿名で申請した場合には、その後の手続きににおいてエストッペル(禁反言)の心配をする必要がないということも挙げられます。即ち、当事者系手続き[付与後異議申立て(Post-grant Review)、並びに当事者系(Inter Partes)再審査や当事者系(Inter Partes)レビュー]では、手続き中に提示した又は提示することが出来た根拠に基づく無効の主張については、その後の特許庁、裁判所又は米国際貿易委員会(ITC)における手続きにおいて、同様の主張をすることは、エストッペルとなり、禁じられます。これに対して、査定系(Ex Parte)再審査を匿名で行った場合、申請人の身分は不明であり、当然、エストッペルも生じません。

以上のように、どの手続きが最も適切かは、様々な事情や状況に応じて判断されることになります。

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特許  米国  クレーム  新規性  記載  提出  必要  費用  以下  審査  効果  or  判断  可能  料金  宣誓供述書  手続  比較  主張  開示  申請  USPTO  異議申立  方法  an  可能性  Patent  メリット  出来  制限  特許庁  選択  同様  理由  具体的  問題  手数料  実際  時期  AIA  月以内  無効  支払  特定  期間  at  追加  art  基準  採用  重要  Appeal  review  当事者系  grant  有効  観点  導入  状況  再審査  特許権者  公表  許可  レビュー  根拠  Review  関連  種類  決定  Inter  以上  異議  Post  付与後異議申立  自明性  訴訟  最終的  特許権  Partes  以外  自明  当然  合理的  審判部  提示  宣言書  解決  ビジネス  見込  提起  審判  CAFC  確率  一部  欠如  12  Grant  異議申  re  適切  ベストモード  直接  付与後異議  禁反言  担当  経過  申請時  追加手数料  事情  方法特許  Ex  当事者  不明  Trial  エストッペル  宣誓  Part  他者  匿名  査定系  裁判所  申立  特許付与後  Method  刊行物  関与  Board  政府料金  不可  無効理由  50  供述書  Parte  特許後  負担  大幅  許可後  Business  新規又  Covered  申請人  ITC  申請時期  法的問題  order  最終  事実  未解決  仮定  以内  効果的  宣誓供述  連邦巡回区控訴裁判所  料金体系  控訴  adding  裁判  月経過後  無効化  公正  特許権者以外  付与後  付与  cells  18  able  訴訟手続  view  査定  over  国際  月経過  特許又  採用不可  控訴可能  新規  心配  匿名不可  両当事者  米国際貿易委員会  当事者系手続  何時  裁判所又  ディスカバリー  証人  終結  本手続  oa  Re  red  ed 

米国:USPTOが新料金を公表

2013年1月18日、USPTOは、AIA(米国改正法 America Invents Act)の施行に伴う新たな料金を公表しました。新料金の多くは、2013年3月19日からの適用となり、一部は2014年1月1日以降に適用となります。

出願・審査関連手数料

出願・審査関連手数料については、値上げされる項目(例えば、通常の特許出願の審査手数料:$250から$720へ値上げ)と値下げされる項目(例えば、通常の特許出願の基本手数:$390から$280へ値下げ)の両方が有りますが、出願・審査関連の手数料の合計としては2~3割の値上げとなります。従って、2013年3月19日以前に米国移行が可能なPCT国際出願などは、早めに手続きを進めると良いでしょう。

 

手続きの種類

現在の料金

新料金

実用特許(utility patent)の基本手数料

$390

$280

実用特許の調査手数料

$620

$600

実用特許の審査手数料

$250

$720

PCT米国段階移行の基本手数料

$390

$280

PCT米国段階の調査手数料 (国際調査報告あり)

$500

$480

PCT米国段階の調査手数料 (国際調査報告なし)

$630

$600

PCT米国段階の審査手数料

$250

$720

明細書が100枚を超えた場合における、50枚追加ごとの料金

$320

$400

独立クレームが3を超えた場合の追加料金

$250

$420

クレーム数が20を超えた場合の追加料金

$62

$80

多項従属クレーム料金

$460

$780

意匠特許基本手数料

$250

$180

意匠特許調査手数料

$120

$120

意匠特許審査手数料

$160

$460

 

RCEの手数料

以前からRCE(Request for Continued Examination)の手数料の値上げが提案されておりましたが、実際に値上げされることとなりました。従来、RCEの手数料は、それが何回目の請求であるかに関わらず1回のRCEにつきlarge entityで$930、small entityで$465であったものが、2013年3月19日以降は、一回目のRCEの手数料がlarge entity$1,200、small entity$600に、二回目以降のRCEの料金がlarge entity$1,700、small entity$850に値上げされます。

AIAにより導入された新たな手続き(異議申立制度など)の手数料

AIAにより新たに導入された付与後異議申立て制度(Post-grant review proceedings)、当事者系レビュー(Inter Partes Review)、Supplemental Examination(補足審査又は補充審査)制度についても、最終的な料金が発表されました。これらの手続きの手数料については、いずれも当初極めて高額な手数料が提案されていましたが、付与後異議申立て制度と当事者系レビューについては、申請時に支払う料金と申請が認められた際に支払う料金に分割され、また付与後異議申立て制度補充審査に関しては、手数料が引き下げられています。しかし、それでも国際的な観点からすると、特許庁に支払うオフィシャルフィーとしては、他に類を見ない高さです。

 

手続きの種類

 

料金

付与後異議申立(Post-Grant Review)又は一部のビジネス方法特許レビュー(Covered Business Method Patent Review)  申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$250)

$12,000

申請が認められた後に支払う手数料

クレーム数15まで(15を超えたクレーム毎の追加手数料$550)

$18,000

当事者系レビュー(Inter Partes Review) 申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$200)

$9,000

申請が認められた後に支払う手数料

クレーム数15まで(15を超えたクレーム毎の追加手数料$400)

$14,000

補充審査(Supplemental Examination) 補充審査(Supplemental Examination)請求

$4,440

査定系再審査(ex parte reexamination)請求
[査定系再審査が不要となった際("substantial new question of patentability"が無いと判断された場合)には返還される。]

$12,100

補充審査(Supplemental Examination)に関しては、現時点での手数料が、補充審査(Supplemental Examination)請求 $5,140 + 査定系再審査(ex parte reexamination)請求 $16,120ですので、2013年3月19日以降の新料金は約20%以上減額されたことになります。

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