Exceptions to Lack of Novelty of Invention

Q1. We understand that Japan has a grace period for avoiding certain public disclosures from constituting prior art against a Japanese application.  How long is this grace period?

A1.  The grace period defined under Article 30 of the Japanese patent law (Exceptions to Lack of Novelty of Invention) is 6 months from the date of public disclosure.

Q2. What type of disclosures is capable of taking advantage of the Exceptions to Lack of Novelty of Invention in Japan?

A2.  According to current Article 30 of the Japanese patent law (effective as of April 1, 2012), virtually any disclosure, including “inventions made public at meetings and seminars, which are not academic conference designated by the Commissioner of the Patent Office, inventions made public on TV and radio, and inventions made public through sales”, are covered by the Exceptions to Lack of Novelty of Invention.  However, a patent publication is not a non-prejudicial disclosure.

Q3. Is the grace period applicable to scientific articles published on the web? 

A3.  The 6-month grace period is also applicable to electronic publications of scientific articles.  When a scientific article is published in the form of an electronic publication in advance to the publication in print, the 6-month grace period will start from the date of the electronic publication.  This rule applies not only to a free electronic publication, but also to an electronic publication which requires registered membership and/or purchase of the publication for accessing the electronic publication.

Q4. An invention has been published as a scientific article and a basic patent application has been filed in the US within 6 months from the publication of the scientific article.  Already 10 months have passed from the publication of the scientific article, but is it still possible to enjoy the benefit of the Japanese 6-month grace period by filing a Japanese patent application claiming the Paris convention priority from the basic US application filed within 6 months from the publication date? 

A4.  No.  Claiming of the Paris convention priority does not allow the filing date in Japan to date back for the purpose of grace period.  In other words, when a basic application is filed in other country within 6 months from the date of public disclosure, and a Japanese patent application claiming the convention priority from the basic application is filed after the expiration of the 6-months grace period, the Japanese patent application cannot enjoy the benefit of the grace period.

For receiving the benefit of the 6-month grace period in Japan, the Applicant must file within the 6-month grace period either one of the following applications:

   (1) Japanese national patent application*, or

   (2) PCT application designating Japan as one of the designated states. 

* Either a Japanese patent application or a PCT application claiming the convention priority from this Japanese patent application can be filed after the expiration of the grace period and still enjoy the benefit of the grace period.

Q5. What are the steps necessary for obtaining the benefit of the Japanese 6-month grace period?  

A5.  Necessary steps are explained separately for Japanese national patent application and PCT application.

Japanese national patent application:

A patent application is filed simultaneously with a Request for Grace Period within 6 months from the date of public disclosure.  Alternatively, the Request may be omitted by stating such effect in the patent application.

Next, a Document Verifying the Request, which is signed by all applicants, is filed within 30 days from the filing date of the patent application.  Filing of a specific evidence material (such as a copy of the scientific article disclosing the invention) is not required, but it is most advisable to file the evidence material with the Document.

PCT application designating Japan:

When a PCT application designating Japan as one of the designated states is filed within the 6 month grace period, such a PCT application will obtain the benefit of the grace period even when the PCT application enters the Japanese national phase after the expiration of the grace period (i.e., within non-extensible 30 month deadline).  In this case, both the Request for Grace Period and the Document Verifying the Request are filed within 30 days from the entry into the Japanese national phase. 

[Filing of the Request for Grace Period can be omitted when “Declaration as to Non-Prejudicial Disclosures or Exceptions to Lack of Novelty” (PCT Rule 4.17(v), 26ter.1) is made at the international stage.]

The Document Verifying the Request can be prepared at our end and forwarded for execution by the applicant(s). 


PCT  application  or  be  patent  Japan  an  Patent  Japanese  not  filing  with  design  filed  claim  period  Office  date  at  Request  one  art  invention  after  any  has  prior  applications  grace  file  only  been  case  within  such  other  into  may  months  phase  will  priority  we  under  made  all  but  Article  non  law  must  We  necessary  also  inter  through  registered  A2  Art  A1  applicant  Rule  step  against  type  Novelty  both  so  ex  effective  possible  following  What  required  even  steps  re  month  publication  disclosure  end  However  Declaration  Q2  Q1  cannot  Applicant  national  April  form  prepared  long  Disclosure  claiming  including  Invention  international  rule  simultaneously  state  public  Ex  covered  either  do  Grace  Q3  does  A3  days  stage  ep  articles  obtain  benefit  Period  Claim  material  Q4  expiration  designated  article  electronic  scientific  A4  Filing  deadline  country  basic  her  per  Document  applicants  inventions  back  entry  evidence  his  Lack  convention  designating  members  cover  Exceptions  understand  web  words  Non  Next  require  defined  ratio  allow  omitted  specific  she  states  start  explained  extensible  execution  applies  day  enjoy  certain  capable  How  According  advantage  able  Verifying  requires  separate  up  isa  over  published  most  purpose  forwarded  taking  Re  Q5  academic  low  mm  meetings  read  publications  red  passed  Paris  free  fr  current  copy  effect  ed  disclosures  fine  ip  invent  applicable  try  A5  An  Claiming  separately  signed  still 





当事者系レビュー(Inter partes review);

付与後異議申立(Post grant review);及び

ビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)。


- 77 Fed. Reg. 48,612 (“Rules of Practice for Trials Before the Patent Trial and Appeal Board and Judicial Review of Patent Trial and Appeal Board Decisions”)

- 77 Fed. Reg. 48680 (“Changes to Implement Inter Partes Review Proceedings, Post-Grant Review Proceedings, and Transitional Program for Covered Business Method Patents”)

- 77 Fed. Reg. 48734 (“Transitional Program for Covered Business Method Patents—Definitions of Covered Business Method Patent and Technological Invention”)

- 77 Fed. Reg. 48756 (“Office Patent Trial Practice Guide”)



当事者系レビュー(Inter partes review

これは従来の当事者系再審査(Inter Partes Reexamination)に代わる手続。

当事者系レビューは、特許付与後9ヶ月以降又は付与後異議申立手続き(Post-grant Review)の終了時のいずれか遅い方から、特許存続期間中であれば申請可能。この申請可能時期と、申請理由が先行技術に基づく新規性違反(102条)、自明(103条)のみに制限されること以外は、当事者系レビュー(Inter Partes Review)のルールは、付与後異議申立て(Post-grant Review)と類似。

当事者系レビュー(Inter Partes Review)を申請した場合、米国特許庁に申請が受理されて再審査が開始されるための基準は、再審査請求対象のクレームのうち、少なくとも1つが無効であることが合理的に見込めるかreasonable likelihood that the petitioner would prevail with respect to at least 1 of the claims challenged)ということである。


付与後異議申立(Post grant review)



- 異議申立て申請書が、特許の少なくとも1つのクレームが無効である可能性が有効である可能性よりも高いことを示していると認められる場合(the petition demonstrates that it is “more likely than not” that at least one claim of the challenged patent is unpatentable.)

- 他の特許や特許出願にも重要な影響を及ぼす新規又は未解決の法的問題を提起する場合(the petition “raises a novel or unsettled legal question that is important to other patents or patent applications.”)


ビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)

新法(AIA)では、ビジネス方法特許に対して第三者が付与後異議申立をできることとなったが、この異議申立手続は「対象となるビジネス方法特許のための暫定プログラム(Transitional program for covered business method patents)」として施行さる。この手続は、その名の通り、2020年9月16日までの暫定的なもの。

最終規則 77 Fed. Reg. 48734 (August 14, 2012)では対象となる発明が次の様に定義されている:「金融商品やサービスの実施、運営または管理に用いられる、データ処理その他の操作を行うための方法若しくは対応する装置を請求する特許であって、技術的発明に関する特許は含まない」。ここで、対象に含まれない「技術的発明」については、「請求された主題が、全体として先行技術に対して新規且つ非自明の技術的特徴であり、技術的解決手段をもって技術的課題を解決する」発明とされているが、詳細な定義は示されておらず、ケース・バイ・ケースで判断される。


1) 異議申立を申請できる者: 通常の付与後異議申立においては、特許権者以外誰でも申請できるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」においては、申請できるのは侵害を訴えられているなど特定の要件を満たす利害関係者のみ。

2) エストッペル(禁反言): 通常の付与後異議申立手続では、そこで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に判断できる根拠に基づく主張については、エストッペル(禁反言)によって後の訴訟などの手続きで同様の主張をすることは禁止されるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」においては、エストッペルの対象となるのは、実際に異議申立で主張した根拠のみ。

3) 申請時期: 通常の付与後異議申立手続では、許可後9ヶ月以内に申請する必要があるが、「ビジネス方法特許のための暫定プログラム」は、許可になった後、何時でも申請することができる。

補充審査(Supplemental examination)

補充審査(Supplemental examination)に関する最終規則は、77 Fed. Reg. 48828 (August 14, 2012)として公開されました。具体的な施行規則は以下からご覧頂けます。


情報開示義務違反(Inequitable Conduct)回避のための新たな手続きとして注目されている補充(補足)審査(Supplemental Examination)制度ですが、こちらも非常に高額な費用設定となっています。具体的には、補充審査(Supplemental Examination)請求時に米国特許庁に対して支払う手数料は、$21,260 [*内訳: 補充審査(Supplemental Examination)請求 $5,140 + 査定系再審査(ex parte reexamination)請求 $16,120]であり、査定系再審査が不要となった際("substantial new question of patentability"が無いと判断された場合)には、査定系再審査(ex parte reexamination)費用$16,120が払い戻されるということになっています。尚、こちらについても、2012年9月6日に、これを約15%程度低減する案が公表されています。

発明者の宣誓書、宣言書(Inventor's oath or declaration)

発明者の宣誓書、宣言書に関するプラクティスが大きく変わります。これについての最終規則は、77 Fed. Reg. 48776 (August 14, 2012)として公開されました。





特許  米国  PCT  出願  クレーム  発明  日本  欧州  新規性  提出  必要  米国特許  費用  上記  以下  application  審査  pct  or  patent  先行技術  判断  商標  可能  料金  手続  出願人  特許出願  IDS  国際出願  利用  主張  開示  申請  USPTO  データ  異議申立  要求  対象  方法  an  対応  説明  可能性  Patent  請求  要件  制度  プログラム  制限  特許庁  not  指定国  with  同様  公開  通常  変更  情報  理由  具体的  問題  特徴  手数料  claim  実際  時期  AIA  月以内  無効  支払  Office  特定  期間  発明者  date  Examination  規則  at  技術  第三者  追加  one  art  非常  基準  特許法  宣誓書  重要  実施  claims  補充  指定  Appeal  review  改正  当事者系  new  grant  有効  applications  不要  審査請求  導入  概要  補充審査  再審査  特許権者  公表  定義  許可  詳細  レビュー  根拠  examination  declaration  Review  日本特許庁  www  課題  発行  種類  Inter  米国特許庁  施行  影響  以上  異議  Post  付与後異議申立  other  侵害  条件  開始  訴訟  Supplemental  最終的  特許権  Partes  以外  ケース  自明  手段  違反  more  parte  pdf  法改正  method  合理的  日以降  than  Fed  原則的  査定系再審査  主題  提示  宣言書  従来  all  制約  解決  reexamination  相違  ビジネス  処理  見込  Conduct  覧下  Inequitable  予定  Act  提起  類似  Decision  Invents  America  サービス  高額  追加料金  段階  ルール  回避  partes  go  米国特許法  程度  patents  審判  Rule  20  program  would  施行規則  so  jpo  ex  両方  米国特許商標庁  Grant  義務  reasonable  異議申  特許許可  情報開示義務  re  旧法  month  成立  情報開示義務違反  プラクティス  簡単  申請可能  legal  署名  business  付与後異議  Reexamination  禁反言  装置  uspto  htm  関係  ページ  申請時  Invention  注目  事情  解決手段  方法特許  Ex  ホームページ  Program  当事者  covered  当事者系再審査  cgi  当該  question  願書  Trial  エストッペル  Proceedings  管理  宣誓  相違点  least  Part  year  査定系  申請書  August  暫定  申立  substantial  異議申立手続  禁止  手順  プロ  respect  補足  特許付与後  Method  Board  リンク  22  予想  21  存続期間  操作  譲渡  明示  issuance  set  reason  受理  likely  審判手続  like  原則  技術的課題  aia  広範  米国特許法改正  Parte  低減  全体  Reg  終了  同意  likelihood  商品  新法  important  情報開示  petition  patentability  her  日本特許  判定  am  許可後  Transitional  Business  バイ  新規又  Covered  緩和  申請時期  ku  非自明  gov  再審査請求  法的問題  内訳  時期的制約  暫定的  最終  challenged  旧法下  url  未解決  link  cover  以内  付与後異議申立手続  tokkyo  tetuzuki  審理  trial  価値  Patents  Practice  陳述書  ratio  ability  最終規則  act  petitioner  kg  part  specific  当該情報  技術的  万円弱  以降  demonstrates  特許権者以外  day  付与後  付与  exam  FR  開示義務  陳述  able  補充審査制度  譲渡人  請求時  程度低減  view  技術的特徴  kokusai  査定  self  unsettled  unpatentable  up  prevail  over  reexam  国際  novel  raises  特許存続期間中  submission  開示義務違反  新規  運営  新規性違反  費用設定  技術的発明  終了時  先行  再審査請求対象  特許許可後  特許商標庁  何時  申請可能時期  利害関係  申請理由  覧頂  ディスカバリー  月以降又  設定  リン  ネック  oath  oa  Re  Reexam  Rules  logical  Inventor  red  pkg  patentable  pc  fr  gpo  ed  fdsys  implementation  Change  Decisions 

Design Registration

Q1. If a design application is to be filed in Japan claiming Convention Priority based on a non-Japanese application, is the priority period one year as in patent applications? 

A1.  No. For filing design applications in Japan claiming Convention priority, the priority period is for six (6) months, instead of one year, from the filing of the priority application.  Even if you have a design "patent" application filed at the USPTO, the priority period is 6 months for filing a Japanese patent application with a valid priority claim based on the degisn "patent" application filed in the US.  

You also have to be careful when filing a patent application in Japan claiming priority from both a patent application and a design application.  That is, for example, if you filed in your country a patent application on May 1, 2012 and a design application on October 30, 2012 and are now considering filing a patent application on May 1, 2013 in Japan claiming priority from both of the above-mentioned patent application and design application filed in your country, this date “May 1, 2013” is within one-year priority period based on the patent application but is after the expiration of six-month priority period (October 30, 2012 + 6 months = April 40, 2013) based on the design application.  Therefore, the priority claim based on the design application is not valid.  

Q2. I am planning to file a design patent application in Japan claiming priority from a US design patent application.  What are the major differences in practice between the United States and Japan that require particular attention?

A2.  Firstly, unlike the “design patent” in the United States which is one type of patents and is basically dealt with under the patent law, Japan has a design law separate from a patent law. 

Therefore, in Japan, an application for registration of a design is referred to as “design application”, not “design patent application” as in the United States.  

More importantly, this difference in legal system leads to some significant differences in design registration practice between the US and Japan representative examples of which are enumerated below.

Difference 1)  “Single design per application” system in Japan

It is understood that the US system allows an applicant to pursue two or more designs (embodiments) of a single inventive concept in a single design patent application.  This, however, is not the case in Japan.  According to the Japanese practice, each design application may include only a single design of single shape.

Therefore, in Japan, when a single priority application includes multiple designs, it is necessary to either:

-  file separate design applications with respect to the different designs, or

-  file an application including different designs and later file a divisional application(s).

In this connection, however, it should be noted that it is not allowed to file a divisional application on a “partial” design from a “whole” design application and vice versa.  Concerning the “partial” and “whole” designs, explanations are made below.

Further, there is an exception to the "single design per application" system, and the Japan's Design Law provides "related design" system for covering a plurality of similar designs.

1-1) Exception to the “single design per application” rule

The Japan’s Design Law exceptionally allows for discrete objects to be claimed in a single application if common sense indicates that such discrete objects are usually sold as a “set”, as in the case of, for example, a 3-piece set including a knife, fork and spoon. 

1-2) Related design applications

In the case where the priority US application contains a plurality of different but similar designs (e.g., minor variations of a certain design), such similar designs may be covered by utilizing the related design system in Japan.  Specifically, the similar designs can be covered by filing a principal design application and filing a related design application(s) by one day prior to the publication of the principal design. 

The design registered as the related design can be enforced independently of the registered principal design and other registered related design(s).  That is, a related design right can cover even a design similar to that related design, which, however, is not similar to the principal design. 

For covering such similar designs under the related design regime, it is possible to either:

-  file a principal design application and also file a related design application(s) simultaneously with the principal application or later (by one day prior to the publication of the principal design at the latest), or

-  file general design applications on the similar designs, and later amend the general applications into a principal design application and a related design application(s).

The JPO may find that the designs are not similar enough to be eligible for registration under the related design regime but there is no need to be so nervous about this point.  If the JPO denies the similarity, the JPO will issue an office action requesting the applicant to stop relying on the related design system and change the applications to normal applications.


Finally, the right of a registered related design is independent from the right of a registered principal design but there are the following exceptions.

1.   Synchronized protection term: 

The protection term for both of a registered principal design and a registered related design is 20 years from the registration date of the principal design.  This point, however, is substantially immaterial in the present case because the two applications will probably be registered almost simultaneously.  Further, the registered related design can be maintained even if the principal design is allowed to lapse due to non-payment of maintenance fee, and vice versa.   

 2.   Restriction of transfer of rights and licensing: 

The right of a registered related design cannot be transferred or licensed independently from the registered principal design.  That is, for transfer of design rights to a third party by assignment etc., the principal and related designs must be simultaneously transferred together to the same entity.  Further, also for licensing, the principal and related designs must be licensed simultaneously to the same entity.


Difference 2)  Partial Design System

The Japan’s Design Law has a “partial design system” which allows registration of parts of shapes or forms with distinct characteristics.  

The US system also provides a similar practice where dotted lines can be used to indicate non-claimed parts.  There is, however, one important difference.  That is, the Japan’s system requires that a partial design application should be filed with a clear indication that the application claims a partial design.  In the absence of such indication, the application will be recognized as claiming a whole design. 

Once filed with the indication of a partial design application, it is in principle not allowed to amend the application into a whole design application and vice versa.  Similarly, a divisional application on a partial design cannot be filed from a whole design application and vice versa. 

Therefore, if it is important to cover both of whole and partial designs, it is recommended to file both a whole design application and a partial design application.


Of course, there are many other differences between US and Japanese practices; however, the above differences are believed to be the main differences which require particular attention when filing a design application in Japan claiminig priority from a US design patent application.


application  or  be  patent  USPTO  Japan  an  JPO  Japanese  not  filing  with  design  filed  Final  claim  period  action  date  at  one  art  rce  present  after  claims  any  has  prior  applications  office  request  above  file  entity  only  case  within  such  use  other  into  divisional  issue  pace  may  months  will  system  priority  we  more  should  under  between  made  mentioned  related  all  but  right  non  law  must  necessary  also  same  third  there  registered  based  A2  A1  patents  applicant  Prior  type  both  so  designs  ex  about  possible  rights  practice  following  What  registration  principal  even  re  fee  month  publication  similar  years  each  end  Q2  Q1  single  legal  party  Design  cannot  April  Further  form  principle  etc  Therefore  claiming  claimed  general  out  including  rule  simultaneously  two  need  Law  whole  United  public  example  because  Ex  many  covered  either  provide  used  allowed  differences  Part  do  year  referred  test  States  partial  substantial  plurality  usually  respect  some  where  ep  protection  clear  later  side  set  independent  main  include  material  who  like  expiration  distinct  difference  Restriction  different  considering  course  country  basic  below  important  her  per  however  am  parts  inventive  term  his  nor  noted  payment  cover  together  understood  valid  vice  versa  indicates  require  ratio  attention  allow  act  place  There  part  particular  lines  care  six  Convention  substantially  due  how  First  believed  connection  day  ended  certain  change  exam  May  According  Concerning  allows  Specifically  October  amend  late  variations  representative  maintenance  requires  instead  shape  separate  over  minor  now  most  indication  objects  note  State  Re  Priority  maintained  major  absence  man  licensed  licensing  low  mm  Unit  provides  regime  recognized  red  planning  point  practices  More  fr  force  covering  eligible  except  examples  ed  discrete  find  ip  invent  assignment  believe  almost  independently  indicate  characteristics  utilizing  try  Even  sold  Difference  transferred  transfer  requesting  Finally  Firstly  relying 

米国(5.2): 特許の取消し・無効を請求する手続き[付与後異議(Post-grant review)等]

付与後異議申立(Post-Grant Review)と当事者系レビュー(Inter Partes Review)の比較


付与後異議申立(Post-Grant Review) 当事者系レビュー(Inter Partes Review)
申請時期 許可後9ヶ月以内 次の時期の内、いずれか遅い方:許可から9ヶ月経過後、若しくは付与後異議申立が終結した日
無効理由 ベストモード以外の35 U.S.C. § 282に記載された無効理由全て 特許又は刊行物に基づく新規性・自明性(35 U.S.C. § 102 及び 103)の欠如
申請を受け付ける基準 無効である可能性が有効である可能性よりも高いことを示していると認められる(無効の見込み確率が50%を超える);又は

申請人の特定 必要(匿名不可) 必要(匿名不可)
後の訴訟手続きなどにおけるエストッペル(禁反言) 本手続きで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に考えられる根拠は、後の手続きで採用不可 本手続きで実際に提示した根拠や提示できたはずと合理的に考えられる根拠は、後の手続きで採用不可
USPTOにおける担当部署 審判部(Patent Trial and Appeal Board 審判部(Patent Trial and Appeal Board
ディスカバリー(開示手続き) 当事者が提示した事実主張に直接関連するもの 宣誓供述書又は宣言書を提出する証人の証言録取書並びに、その他、公正な判断のために必要なもの
決定までに要する期間 12~18ヶ月 12~18ヶ月
決定に対する控訴 両当事者のいずれもが、連邦巡回区控訴裁判所(CAFC)に控訴可能 両当事者のいずれもが、連邦巡回区控訴裁判所(CAFC)に控訴可能







AIAにより導入される付与後異議申立て(Post-grant review)、当事者系レビュー(Inter Partes Review)については、2013年1月18日に最終的な料金(USPTOに支払う手数料)が公表されました。上の表においては、クレーム数15で、手続きの申請が認められた場合を仮定した料金を示しましたが、具体的な料金体系は以下の通りとなっています。




付与後異議申立(Post-Grant Review)又は一部のビジネス方法特許レビュー(Covered Business Method Patent Review)  申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$250)





当事者系レビュー(Inter Partes Review) 申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$200)






他者の特許を無効化する為に査定系(Ex Parte)再審査を選択することのメリット

査定系(Ex Parte)再審査は、他の当事者系の手続きと比較して、特許権者以外の申請人の関与が大幅に制限されるため、他者の特許を無効に出来る確率の観点からは、当事者系の手続きの方が効果的と言えます。しかし、査定系(Ex Parte)再審査には、当事者系の手続きと比較して、色々な面で申請する側の負担が少ないというメリットがあります。具体的には、以下のようなメリットが挙げられます。

① 特許後、何時でも申請できる。

② 匿名で申請できる。

③ 当事者系手続きと比較して費用が安い(USPTOに支払う手数料は、$12,000)。

そして、②の匿名で申請できるということに関連するメリットとして、匿名で申請した場合には、その後の手続きににおいてエストッペル(禁反言)の心配をする必要がないということも挙げられます。即ち、当事者系手続き[付与後異議申立て(Post-grant Review)、並びに当事者系(Inter Partes)再審査や当事者系(Inter Partes)レビュー]では、手続き中に提示した又は提示することが出来た根拠に基づく無効の主張については、その後の特許庁、裁判所又は米国際貿易委員会(ITC)における手続きにおいて、同様の主張をすることは、エストッペルとなり、禁じられます。これに対して、査定系(Ex Parte)再審査を匿名で行った場合、申請人の身分は不明であり、当然、エストッペルも生じません。



特許  米国  クレーム  新規性  記載  提出  必要  費用  以下  審査  効果  or  判断  可能  料金  宣誓供述書  手続  比較  主張  開示  申請  USPTO  異議申立  方法  an  可能性  Patent  メリット  出来  制限  特許庁  選択  同様  理由  具体的  問題  手数料  実際  時期  AIA  月以内  無効  支払  特定  期間  at  追加  art  基準  採用  重要  Appeal  review  当事者系  grant  有効  観点  導入  状況  再審査  特許権者  公表  許可  レビュー  根拠  Review  関連  種類  決定  Inter  以上  異議  Post  付与後異議申立  自明性  訴訟  最終的  特許権  Partes  以外  自明  当然  合理的  審判部  提示  宣言書  解決  ビジネス  見込  提起  審判  CAFC  確率  一部  欠如  12  Grant  異議申  re  適切  ベストモード  直接  付与後異議  禁反言  担当  経過  申請時  追加手数料  事情  方法特許  Ex  当事者  不明  Trial  エストッペル  宣誓  Part  他者  匿名  査定系  裁判所  申立  特許付与後  Method  刊行物  関与  Board  政府料金  不可  無効理由  50  供述書  Parte  特許後  負担  大幅  許可後  Business  新規又  Covered  申請人  ITC  申請時期  法的問題  order  最終  事実  未解決  仮定  以内  効果的  宣誓供述  連邦巡回区控訴裁判所  料金体系  控訴  adding  裁判  月経過後  無効化  公正  特許権者以外  付与後  付与  cells  18  able  訴訟手続  view  査定  over  国際  月経過  特許又  採用不可  控訴可能  新規  心配  匿名不可  両当事者  米国際貿易委員会  当事者系手続  何時  裁判所又  ディスカバリー  証人  終結  本手続  oa  Re  red  ed 


2013年1月18日、USPTOは、AIA(米国改正法 America Invents Act)の施行に伴う新たな料金を公表しました。新料金の多くは、2013年3月19日からの適用となり、一部は2014年1月1日以降に適用となります。







実用特許(utility patent)の基本手数料












PCT米国段階の調査手数料 (国際調査報告あり)



PCT米国段階の調査手数料 (国際調査報告なし)





























以前からRCE(Request for Continued Examination)の手数料の値上げが提案されておりましたが、実際に値上げされることとなりました。従来、RCEの手数料は、それが何回目の請求であるかに関わらず1回のRCEにつきlarge entityで$930、small entityで$465であったものが、2013年3月19日以降は、一回目のRCEの手数料がlarge entity$1,200、small entity$600に、二回目以降のRCEの料金がlarge entity$1,700、small entity$850に値上げされます。


AIAにより新たに導入された付与後異議申立て制度(Post-grant review proceedings)、当事者系レビュー(Inter Partes Review)、Supplemental Examination(補足審査又は補充審査)制度についても、最終的な料金が発表されました。これらの手続きの手数料については、いずれも当初極めて高額な手数料が提案されていましたが、付与後異議申立て制度と当事者系レビューについては、申請時に支払う料金と申請が認められた際に支払う料金に分割され、また付与後異議申立て制度補充審査に関しては、手数料が引き下げられています。しかし、それでも国際的な観点からすると、特許庁に支払うオフィシャルフィーとしては、他に類を見ない高さです。





付与後異議申立(Post-Grant Review)又は一部のビジネス方法特許レビュー(Covered Business Method Patent Review)  申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$250)





当事者系レビュー(Inter Partes Review) 申請時に支払う手数料

クレーム数20まで (20を超えたクレーム毎の追加手数料$200)





補充審査(Supplemental Examination) 補充審査(Supplemental Examination)請求


査定系再審査(ex parte reexamination)請求
[査定系再審査が不要となった際("substantial new question of patentability"が無いと判断された場合)には返還される。]


補充審査(Supplemental Examination)に関しては、現時点での手数料が、補充審査(Supplemental Examination)請求 $5,140 + 査定系再審査(ex parte reexamination)請求 $16,120ですので、2013年3月19日以降の新料金は約20%以上減額されたことになります。


特許  米国  PCT  出願  クレーム  明細書  RCE  審査  or  patent  判断  可能  料金  手続  意匠  移行  特許出願  国際出願  適用  申請  USPTO  異議申立  方法  an  Patent  請求  制度  特許庁  通常  手数料  実際  特許審査  AIA  支払  Examination  at  Request  追加  art  調査  補充  review  改正  以前  当事者系  new  grant  不要  観点  国際調査報告  導入  補充審査  現在  再審査  公表  レビュー  examination  分割  utility  Review  関連  entity  種類  Inter  施行  以上  異議  Post  付与後異議申立  Supplemental  最終的  国際調査  Partes  減額  parte  日以降  査定系再審査  従来  項目  新料金  all  small  reexamination  ビジネス  Act  Invents  America  高額  追加料金  段階  独立  発表  proceedings  一部  ex  両方  Grant  時点  従属  異議申  re  large  付与後異議  現時点  申請時  値上  追加手数料  方法特許  Ex  Continued  当事者  合計  question  Part  査定系  申立  日以前  substantial  補足  Method  国際的  基本手数料  多項従属  Parte  値下  調査手数料  実用特許  patentability  am  Business  当初  Covered  異議申立制度  order  最終  審査手数料  proceeding  返還  ability  adding  part  意匠特許  以降  何回  付与後  付与  米国段階  cells  exam  able  補足審査又  調査報告  view  査定  up  報告  over  提案  reexam  国際  改正法  多項  審査関連手数料  二回目以降  米国移行  何回目  明細  一回目  一回  回目以降  Re  red  ed 


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