A2

パラメータ発明、パラメータ特許について(Part 2 国毎の記載要件など)

[II] 「パラメータ発明」について主要国での取り扱いの相違

(II-1)パラメータ発明を許容しているか否か:

日本、米国、欧州、中国、韓国などを含む主要な国で、所謂「特殊パラメータ」で発明を規定することが禁止されている国は有りません。

欧州や中国では、審査基準に、発明をパラメータで特徴付けることは、発明を他の方法で十分に規定することが出来ない場合に限り許されるべきという趣旨の規定が有ります(EPO審査便覧、F部、第IV章、4.11)(中国専利審査指南、第二部分、第二章、3.2.2項)。しかし、通常、特殊パラメータの場合、これを使用せずに他の方法で十分に規定することが出来たということを明確にすることは難しいため、上記の規定が問題になることは少ないと思います。

(II-2)「パラメータ発明」の記載要件(実施可能要件、サポート要件、明確性要件):

発明の分野に関わらず、実施可能要件、サポート要件及び明確性などの記載要件については、各国ほぼ同様の基本的要求が有ります。

- 実施可能要件を満足するためには、クレームされたものを、公知物質から出発して過度の試行錯誤なしに製造する方法を明確に記載することが要求されます。

- サポート要件を満足するためには、クレームに記載した発明は、明細書によってサポートされ、裏付けられていることが要求されます。

- 明確性要件を満たすためには、特許請求の範囲の記載は明確でなくてはなりません。

パラメータ発明の場合に特に注意すべきこととしては、以下の様な点が挙げられます。

注意点(i) 

パラメータの達成手段の記載: 実施可能要件を満足するために、一般的な製造方法のみならず、如何にしてクレームしたパラメータを達成出来るかについて具体的な手段を記載することが必要です。

このことは実施可能要件の観点からのみならず、新規性の立証においても重要になる場合が少なくありません。即ち、特殊パラメータは当然、従来知られていなかったものですので、一見して先行技術においてそれが満たされているか分かりません。先行技術においてパラメータが満たされていなかったことを立証する際に、この特殊パラメータを満足するための方法について、先行技術が、全く開示していない、若しくは異なった製造方法を採用しているということを根拠にすることが多いからです。

パラメータ発明の製造方法が、先行技術に記載された方法と区別できないようなものであると、新規性が欠如しているか、実施可能要件が満たされていないかのいずれかの筈と見なされてしまいますので、この点はパラメータ発明に関する明細書において極めて重要です。

注意点(ii)

日本における記載要件に関する審査基準の厳しさ: パラメータ発明の記載要件について、日本は格段に厳しい判断基準を設けており、且つ出願後に実験データを提出すること(所謂「実施例の後出し」)によって記載要件(サポート要件や実施可能要件)の不備を解消することが認められていません。

日本の記載要件の厳しさについては、日米欧三極特許庁の「記載要件に関する事例研究」という資料に顕著に示されています。

(ii-a) サポート要件:
この資料の事例1においては、日本におけるサポート要件の厳しさが浮き彫りになっています。この事例1は、実際に日本において知財高裁大合議で争われた案件(「偏光フィルム事件」、平成 17年 (行ケ) 10042号 特許取消決定取消請求事件)をモデルにしておりますので、日本特許庁の理解と比較して欧米特許庁の理解が十分で無かった可能性は否めませんが、それでも大いに参考になると思います。(参考までに、「偏光フィルム事件」で取り消された日本特許に対応する米国及び欧州の出願はありませんでした。)

問題となった特許発明は、偏光フィルムの製造法であって、以下の2つのパラメータを満たすことが特徴となっておりました。

原料フィルムの完溶温度(X)と平衡膨潤度(Y)が、
Y > ‐0.0667X + 6.73   ・・・(I)
X ≧ 65          ・・・(II)

そして、この特許には、実施例が2つと比較例が2つ記載されています。

実際には、日本においては、出願後に補正がなされたり、実験データが提出されたりしたのですが、そのようなことは無かったものと仮定して、三極の見解が出されました(この資料の事例1、条件1)。

ここで米国特許庁と欧州特許庁が、記載要件を満たすとの見解を出したのに対し、日本特許庁は十分な記載がないとの見解を示しました。具体的には、日本特許庁は、このような発明において、特許請求の範囲の記載が明細書のサポート要件に適合するためには、以下のことが必要であると述べております:

- 発明の詳細な説明は、その数式が示す範囲と得られる効果(性能)との関係の技術的な意味が、特許出願時において具体例の開示がなくとも当業者に理解できる程度に記載するか、又は、

- 特許出願時の技術常識を参酌して、当該数式が示す範囲内であれば、所望の効果(性能)が得られると当業者において認識できる程度に、具体例を開示して記載することを要する。

その上で、日本特許庁は、本件においては、具体例として二つの実施例及び二つの比較例が記載されているに過ぎず、また、本願発明が、具体例の開示がなくとも当業者に理解できるものであったことを認めるに足りる証拠はないと述べております。

更に、上記したように、日本においては、出願後に実験データを提出して瑕疵を治癒することは許容されません(資料の事例1、条件2)。

(ii-b) 明確性要件:
また「記載要件に関する事例研究」の事例2、条件1においては、日本における明確性要件の厳しさが顕著に示されています。

この事例2、条件1においては、微粒子の平均粒径が発明の特徴として記載されておりますが、この「平均粒径」の具体的な種類(個数平均径、長さ平均径、体積平均径など)及び測定方法が特定されていません。この事例の明確性要件に関する日米欧特許庁の見解は概ね以下の通りです。

日本: 発明の範囲が不明確。平均粒径の定義、測定方法等が複数あり、当業者間において、どれを使用するのが通常であるとの共通の認識はないというのが当該分野の技術常識。

欧州: 明確性は問題なし。測定方法等の記載が不十分で、権利範囲が定まらない場合、偶発的に先行技術に含まれてしまう恐れがある。しかし、これは開示の十分性の問題では無い。

米国: 技術常識などにもよるので一概には言えないが恐らく記載要件を満たしている。測定方法等が複数あったとしても、結果が非常に類似する場合、特定の測定方法を選択することは重要ではなく、一方で、結果が非常に異なる場合、当該特定の測定方法は容易に明らかだと言える。

(II-3)日本以外の国で、記載要件の拒絶理由を解消するために、実験データを出願後に提出することが許容されるか否か:


記載要件の拒絶理由を解消するために、実験データを出願後に提出することは、日本では上記したように許されませんが、米国、欧州、中国、韓国における運用は以下の通りです。

米国: 可能です。米国は、パラメータ特許に限らず、また記載要件のみならず、非自明性立証目的で明細書に根拠の無い効果に関する実験証明の提出なども認められており、出願後の実験証明書の提出に関しては寛容です。その様な実験証明書を提出する場合、37 C.F.R. § 1.132に基づく宣誓書(affidavit)又は宣言書(declaration)の形式で提出することが望ましいと考えられています。

欧州: 明細書の開示不十分を補う目的での実験証明書の提出は認められていません。

しかし、上記の通り、EPOはパラメータ発明に関して、日本のように特別な記載要件を要求していません。

欧州では、明細書中に当業者が実施可能なように発明が記載されていれば、原則的に具体例は少なくとも1つ開示されていればよいことになっております(EPC施行規則、第III部、第II章、規則42)。もしクレームされた範囲が広い場合には、クレームの範囲全般をカバーする複数の具体例を提示することが要求されます(審査便覧C-II,4.9)。

上記の「偏光フィルム」の例に関しては、EPOはクレームされた範囲に鑑みて実施例が2つもあれば十分という判断を示しています。

しかし、明細書の開示不十分を補う目的では提出できませんので、例えば、出願当時の明細書に全く具体的な開示がないのに、実験証明書で補うことは許されません。

一方、クレームした範囲と比較して明細書に具体例が少な過ぎるなどと指摘を受けた際に、具体例が少なくても明細書の記載から当業者が容易に実施可能ということを実験証明書をもって立証することは禁止されていません。勿論、拒絶理由を解消できるかは証拠の説得力次第になります。

中国: EPOとほぼ同様と考えて良いと思います。化学分野などの予測が困難な技術分野において、明細書の開示が十分か否かを判断する際に、出願日以降に補足提出された実施例や実験データなどは考慮されません(中国専利審査指南、第二部分、第十章、3.4項(2))。

韓国: 審査基準には明確な記載は無いように思われますが、こちらのAIPPIの資料から判断する限り、EPOとほぼ同様と考えて良いと思います。尚、韓国もパラメータ発明の記載要件に関して、日本同様の審査基準を導入するという話が以前ありましたが、現状が定かではありません。少なくとも現行の審査基準の「パラメータ発明の進歩性の判断」の項目において、パラメータの技術的意味の検討の必要性やパラメータと効果の明確化の必要性など、日本で記載要件に含まれているような事項が挙げられており、進歩性が否定された場合に実験成績証明書の提出による反論が可能とされております(韓国特許要件審査基準、第3章、6.4.3)。

タグ:

特許  米国  中国  出願  クレーム  発明  日本  欧州  補正  新規性  記載  提出  必要  EPO  進歩性  明細書  米国特許  韓国  上記  以下  審査  効果  拒絶  or  先行技術  判断  可能  EPC  例外  特許出願  欧州特許  比較  パラメータ  開示  データ  実施例  要求  方法  範囲  対応  説明  可能性  請求  要件  出来  特許庁  選択  規定  同様  通常  考慮  理由  具体的  出願時  問題  特徴  明確  実際  拒絶理由  使用  特定  公知  EP  各国  規則  at  技術  容易  当業者  非常  意味  基準  採用  出願日  宣誓書  事件  注意  重要  実験  実施  十分  改正  証拠  以前  理解  審査基準  一般的  非自明性  結果  権利  観点  EP  試行  導入  サポート  欧州特許庁  定義  製造  詳細  根拠  declaration  file  形式  複数  日本特許庁  www  種類  決定  米国特許庁  施行  出願後  II  目的  分野  平成  技術分野  参考  自明性  条件  判断基準  所謂  証明  以外  基本的  自明  案件  手段  pdf  EPO  当然  達成  顕著  立証  日以降  不明確  III  提示  知財  宣言書  従来  見解  相違  特殊  記載要件  権利範囲  類似  勿論  困難  趣旨  A2  製造方法  go  部分  程度  測定方法  範囲内  具体例  記載不備  比較例  施行規則  so  欠如  jpo  実施可能要件  正確  認識  原料  re  torikumi  明細書中  一般  公知物質  affidavit  主要国  注意点  関係  日米  後出  参酌  特許取消  解消  予測  許容  ii  欧米  当該  不明  宣誓  区別  所望  A3  取消  不備  明確性  共通  禁止  資料  補足  実験証明書  化学分野  化学  事例  仕方  カバー  説得力  一見  主要  実施可能  原則  A4  専利審査指南  不十分  特許取  測定  日本特許  進歩  平均  フィルム  日本以外  偏光  当初  一定  IV  ku  非自明  米国及  仮定  一概  運用  第二部分  ratio  本願発明  物質  技術的  以降  特許発明  適合  kokusai  isa  over  実験証明  特許出願時  常識  従来知  部第  達成出来  如何  新規  過度  専利  性能  寛容  技術常識  研究  第二章  出願日以降  全般  先行  出発  出願当初  特許請求  例外的  満足  瑕疵  明細  裏付  説得  格段  low 

《特許出願明細書》

分野 : バイオテクノロジー(細胞生物学) (和英)

原文:

更に、MAPKキナーゼの活性化には、キナーゼドメインVIIとVIIIの境界領域にある2つのセリン及び/又はスレオニン残基(即ち、2つのセリン残基、2つのスレオニン残基又はセリンとスレオニン残基)のリン酸化が必要で、このリン酸化を担うセリン/スレオニンキナーゼをMAPKKキナーゼ(MAPKKK)と総称する。前記のRaf-1はMAPKKキナーゼの一種であり、Ras→Raf-1(即ち、MAPKKK)→MAPKK→MAPKという連鎖は、シグナル伝達の主要経路の一つである。MAPKKK→MAPKK→MAPKという3分子からなるキナーゼの連鎖をMAPキナーゼシグナルカスケードと呼ぶ。

英訳文:

For activating a MAPK kinase, it is necessary to phosphorylate two serine and/or threonine residues (i.e., two serine residues, two threonine residues, or one serine residue and one threonine residue) located in the boundary region between the kinase subdomains VII and VIII, and a serine/threonine kinase responsible for this phosphorylation is designated MAPKK kinase (MAPKKK). The above-mentioned Raf-1 is one example of MAPKK kinase, and the following cascade reaction: Ras → Raf-1 (i.e., MAPKKK) → MAPKK → MAPK, is one of the major signal transduction pathways. The cascade reaction consisting of three kinase molecules, MAPKKK → MAPKK → MAPK, is called a MAP kinase signal cascade.

分野:バイオテクノロジー(遺伝子工学) (和英)

原文:

SIIS-1発現プラスミドの構築上記(ii)で単離したSIIS-1cDNAを制限酵素XbalとPvuIIで消化し、得られた制限酵素断片をブラントエンド化し、哺乳動物発現ベクターpEF-BOSのブラントエンド化したXbalサイトに挿入した。以下、構築したSIIS-1発現ベクターをpEF-BOS/SIIS-1(SH+)とする。SH2領域を欠損した変異型SIIS-1を構築するために、pEF-BOS/SIIS-1(SH+)を制限酵素BssHIIで消化し、生じた360bpの断片を除去した。得られたSH2領 域及びC末端の領域を欠損したSIIS-1発現ベクター(即ち、SIIS-1変異ベクター)を、pEF-BOS/SIIS-1(SH-)とした。 上記で構築したpEF-BOS/SIIS-1(SH+)又はpEF-BOS/SIIS-1(SH-)のいずれか一方の発現ベクターとネオマイシン耐性遺伝子をコードするpSV2 Neoとを20:1の比率で混ぜ、M1細胞にエレクトロポレーション法で形質導入した。ネオマイシン耐性を指標とし、形質導入体(クローン)をGeneticin(米国、GIBCOBRL社製)750μg/mlを含む成長培地中で選択した。

英訳文:

Construction of SIIS-1 expression vectors: SIIS-1 cDNA isolated in step (ii) above was digested with restriction enzymes XbaI and PvuII, and the end of the obtained restriction fragment (XbaI-PvuII) was converted into a blunt end. Then, the resultant blunt-ended fragment was inserted into the blunt-ended XbaI site of the mammalian expression vector pEF-BOS. Hereinafter, the constructed SIIS-1 expression vector is simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH+)". For the construction of a mutant SIIS-1 which is an SH2 domain-deficient SIIS-1, a BssHII-digested fragment of 360 bp was removed from pEF-BOS/SIIS-1 (SH+). The thus obtained SIIS-1 expression vector (that is, a mutant SIIS-1 vector) which is deficient in the SH2 domain and is truncated at the C-terminus is hereinafter simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH-)". Each of the expression vectors pEF-BOS/SIIS-1 (SH+) and pEF-BOS/SIIS-1 (SH-) prepared above was individually mixed with expression vector pSV2 Neo (encoding a neomycin-resistance gene) at a ratio of 20:1. Subsequently, each of the resultant vector mixtures was separately transfected into M1 cells by electroporation. Using neomycin resistance as an index, the transfectants (i.e., clones) were selected in the growth medium containing Geneticin (manufactured and sold by GIBCO BRL, USA) at 750 μg/ml.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

本発明の発泡射出成形方法によれば、金型キャビティ内壁面形状の転写性が良好で、無発泡の表皮層と高発泡の発泡層を有する成形品を再現性良く、効率的、経済的に製造することができるだけでなく、成形品の表皮層の厚さおよび成形品の発泡倍率を容易に制御することができる。

英訳文:

The foam-injection molding method of the present invention is advantageous not only in that a molded article which exhibits excellent reproduction of the morphology of the inner wall of the mold cavity and which has both a non-foamed surface skin layer and a highly foamed interior portion can be produced with excellent reproducibility and high efficiency and economically, but also in that the thickness of the surface skin layer and the expansion ratio of the molded article can be easily controlled. The foam-injection molding method of the present invention can provide various excellent foam-injection molded articles of a thermoplastic resin at a low cost.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明は、複合色素及びn型半導体を包含する光電変換素子であって、該複合色素は、互いに 異なる励起準位を有する複数の成分色素が互いに化学結合されてなり、それにより、電子移動用の直鎖又は枝分かれ構造体を形成し、該直鎖又は枝分かれ構造体は一端において該n型半導体に保持され、他端は自由端であり、その励起準位が該直鎖又は枝分かれ構造体の上記のn型半導体に保持された端部から、上記の自由端に向かって減少する順序で配列されていることを特徴とする光電変換素子に関する。

英訳文:

The present invention is concerned with a photoelectric conversion element comprising a composite dye and an n-type semiconductor, the composite dye comprising a plurality of component dyes which have different excitation levels and which are chemically bonded to each other to form a straight chain or branched structure for transferring an electron therethrough, wherein the straight chain or branched structure is, at one end thereof, secured to the n-type semiconductor and has, at least at one other end thereof, a free end, and wherein the plurality of component dyes are arranged in an order such that the excitation levels of the plurality of component dyes are decreased as viewed from the one end of the structure toward the at least one other end of the structure.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明の光電変換素子は、光電変換性能に優れ、特に、太陽エネルギーからのエネルギー取り 出し効率(エネルギー変換効率)が高く、また、それを用いて簡便に色素増感型太陽電池を製造 することができるので、色素増感型太陽電池などに有利に用いられる。

英訳文:

The photoelectric conversion element of the present invention exhibits excellent photoelectric conversion properties, especially high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency), and a dye sensitized solar battery can be easily produced therefrom. Therefore, the photoelectric conversion element of the present invention can be advantageously used for a dye sensitized solar battery and the like.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

文明社会はエネルギーの消費によって成立するが、そのエネルギーの大部分は、自然が長年か けて太陽光エネルギーを蓄えた化石燃料に由来する。近年、その化石燃料の減少やその燃焼に よる地球温暖化問題が、人類社会の持続的発展の足かせとなる危惧が高まっている。 これらの問題を解決するために、太陽エネルギーから直接エネルギーを取り出す研究開発が盛 んに行われている。これらの中で、太陽電池は太陽エネルギーからのエネルギー取り出し効率 (エネルギー変換効率)が高いため多くの研究が為されている。とりわけ、色素に代表される光 増感剤を用い、その励起電子を効率よく取り出すことが可能な色素増感型太陽電池は、Michae l Gratzel等によって、エネルギー変換効率が7%を超えるシステムが発表(Nature 1991,353,737参照)されて以来、複雑な製造工程を経ず、安価に製造できる次世代の太陽 電池として注目を集めている。

英訳文:

Consumption of energy is indispensable to civilized society. Most of the energy which is consumed by civilized society is derived from fossil fuels, in which sunray energy has been accumulated over many years. In recent years, the problem that the amount of fossil fuels available is being reduced and the problem that the burning of fossil fuels causes global warming have arisen, and there is an increasing fear that these problems will be obstacles to the sustainable development of human society. For solving the above-mentioned problems, various studies have been made to directly utilize sunray energy. Among these studies, the studies on solar batteries have been vigorously made, because solar batteries exhibit high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency). Among the solar batteries, special attention has been paid to a dye sensitized solar battery, which uses a photosensitizer, such as a dye, and which is capable of efficiently taking out electrons from the photosensitizer by the irradiation of the photosensitizer with sunray. Specifically, since Michael Gratzel et al. reported a system which uses a dye sensitized solar battery having an energy conversion efficiency of more than 7 % (see Nature 1991, 353, 737), a dye sensitized solar battery has drawn special attention as the next generation solar battery which can be produced at a low cost without use of a complicated method.

分野 : 鉄鋼技術、機械 (英和)

原文:

A production line for manufacturing hot steel strips from two casting lines (a, b) for thin slabs of thickness < 100 mm, only one of which (a) is aligned with a rolling line (e, g) characterized by comprising superimposed heating furnaces with mandrel (Al, A.2; Bl, B2), one pair on line (a) and one on line (b) respectively, both provided with internal mandrel to allow winding/unwinding steps of pre-strips having thickness lower than 30 mm, further comprising a bypass length (d) between said two furnaces (Al, A2) for the endless rolling in a finishing rolling mill (g) through a roller path (e), and a transverse path (k.) for transferring said pair of furnaces (Bl, B2) from line (b) to line (a) fox the production of single strips, there being provided an induction furnace (f) downstream of said heating furnaces with mandrel and immediately upstream of said finishing rolling mill (g).

和訳文:

熱間鋼帯を製造するための製造ラインであって、厚み100mm未満の薄いスラブ製造用の2つの鋳造ライン(a)及び(b)、該鋳造ライン(a)と直列に配置されてなる、ローラーコンベア(e)及び仕上用圧延機(g)を含む圧延ライン、上下に重なり合った加熱炉(A1)及び(A2)であって、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、該鋳造ライン(a)に設けられた加熱炉(A1)及び(A2)、上下に重なり合った加熱炉(B1)及び(B2)であって、該鋳造ライン(b)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、鋳造ライン(b)に設けられた加熱炉(B1)及び(B2)、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブを、ローラーコンベア(e)を介して仕上用圧延機(g)で連続的圧延に付すためのバイパス経路(d)であって、加熱炉(A1)と(A2)との間に設けられたバイパス経路(d)、加熱炉(B1)及び(B2)を、鋳造ライン(b)から鋳造ライン(a)に移動するための横断経路(k)、及びマンドレルを有する該加熱炉の下流であって、該仕上用圧延機(g)の直上流に設けられた誘導炉(f)、を含むことを特徴とする製造ライン。

タグ:

米国  発明  必要  上記  以下  or  be  可能  方法  an  成分  制限  not  選択  本発明  with  design  問題  特徴  action  at  技術  容易  one  art  invention  原文  present  after  any  has  導入  近年  above  製造  epo  複数  report  only  been  英訳文  英訳  参照  such  II  分野  工程  use  other  into  will  system  we  more  method  than  between  made  mentioned  III  all  but  解決  problem  having  non  necessary  also  inter  through  resin  was  there  A2  go  部分  A1  consisting  発表  エネルギー  step  type  both  so  excellent  ex  high  following  有利  サイト  和英  said  steps  re  ライン  成立  years  each  end  without  直接  single  comprising  heat  obtained  SIIS  form  prepared  energy  システム  Therefore  further  SIIS  out  動物  機械  two  solar  注目  properties  example  reaction  because  many  ii  provide  kinase  amount  used  least  do  ベクター  provided  year  referred  were  component  conduct  pEF  BOS  simply  index  plurality  conversion  respect  MAPKK  where  ep  化学  複雑  バイオテクノロジー  expression  効率的  articles  DNA  主要  obtain  和訳  structure  dye  efficiency  SH  restriction  main  MAPK  wherein  like  減少  制御  available  battery  細胞  designated  article  directly  construction  being  cost  一端  different  BOS  他端  production  containing  these  一種  開発  VIII  加熱炉  various  MAPKKK  her  pEF  per  element  electric  see  vector  three  am  its  sensitized  バイ  バイオ  B2  セリン  product  太陽  キナーゼ  term  単離  構築  his  herein  rolling  result  長年  該鋳造  order  変換  訳文  経済的  paid  SH  発現  converted  thus  threonine  以来  再現  スラブ  スレオニン  安価  効率  resistance  portion  遺伝子工学  電気工学  individual  順序  reported  ratio  鋳造  Raf  attention  製造用  枝分  VII  mandrel  未満  allow  act  photoelectric  構造体  located  There  less  構造  lines  easily  由来  B1  形成  foam  furnaces  exhibits  domain  due  highly  hereinafter  serine  batteries  耐性  代表  blunt  自然  内部  色素増感型太陽電池  dyes  development  保持  マンドレル  発泡倍率  composite  complicated  簡便  ended  concerned  cells  capable  光電変換素子  cascade  exam  converting  chemical  電池  配置  コード  advantage  able  XbaI  Specifically  Nature  view  late  manufacture  和訳文  residues  半導体  残基  since  injection  separate  樹脂  成形品  up  own  pair  型半導体  over  problems  produced  photosensitizer  path  変換効率  molded  molding  mutant  my  vectors  immediately  前記  fragment  fuels  制限酵素  surface  fossil  分子  therefrom  thickness  studies  sunray  strips  special  society  taking  酸化  連鎖  mm  Xbal  II  性能  指標  電子  除去  領域  エレクトロポレーション  研究  仕上前鋳片  仕上用圧延機  移動  比率  包含  伝達  化学結合  化石燃料  樹脂成形  欠損  消化  励起準位  発展  シグナル  該直鎖又  変異  表皮層  ローラーコンベア  リン  上下  経路  バイパス  ネオマイシン  ブラントエンド  英和  自由端  next  oa  neomycin  Ras  PvuII  SH2  mold  major  man  advantageous  low  mill  mm  ml  USA  range  MAP  Hereinafter  recent  red  free  fr  fox  foamed  deficient  heating  convert  finishing  excitation  exhibit  efficiently  ed  digested  fact  human  ip  invent  branched  internal  levels  layer  arranged  coding  increasing  civilized  causes  called  chain  uses  Each  respectively  resultant  responsible  Among  skin  BssHII  site  Bl  sold  straight  separately  semiconductor  signal  way  steel  transferring  transfer  toward  Gratzel  residue  Geneticin  thereof 

PCT National Phase in Japan

Q1. What are the time limits for entering Japanese national phase under PCT Chapters I and II?

A1.  The time limit is 30 months from the earliest priority date (if any) or the international filing date of the PCT application for both Chapters I and II.

Q2. Are Japanese translations of the PCT specification, abstract and drawings necessary for entering the Japanese national phase?

A2.  Yes.  Japanese translations of the PCT specification, abstract and drawings must be filed with the Japan Patent Office.  Further, Japanese translations of amendments under PCT Article 19 and 34 (if any) should be filed with the Japanese translations of the specification, abstract and drawings.

Q3. The time limit for entering Japanese national phase is drawing near but it seems unlikely that a Japanese translation of the PCT specification can be timely prepared.  Does the JPO allow postponement of the filing of the Japanese translation? 

A3.  We can first file a “formal notice of entry into Japanese national phase” by the 30-month deadline for entry into Japanese national phase and, then, file Japanese translations of the PCT specification, abstract and drawings.  The formal notice can be prepared at our end based on the information shown in the cover page of the international publication.  The Japanese translations may be validly filed within 2 months from the date of the filing of the above-mentioned formal notice of entry.  No extra charge is necessary for such delayed filing of the Japanese translations.

Exceptions to Lack of Novelty of Invention

Q1. We understand that Japan has a grace period for avoiding certain public disclosures from constituting prior art against a Japanese application.  How long is this grace period?

A1.  The grace period defined under Article 30 of the Japanese patent law (Exceptions to Lack of Novelty of Invention) is 6 months from the date of public disclosure.

Q2. What type of disclosures is capable of taking advantage of the Exceptions to Lack of Novelty of Invention in Japan?

A2.  According to current Article 30 of the Japanese patent law (effective as of April 1, 2012), virtually any disclosure, including “inventions made public at meetings and seminars, which are not academic conference designated by the Commissioner of the Patent Office, inventions made public on TV and radio, and inventions made public through sales”, are covered by the Exceptions to Lack of Novelty of Invention.  However, a patent publication is not a non-prejudicial disclosure.

Q3. Is the grace period applicable to scientific articles published on the web? 

A3.  The 6-month grace period is also applicable to electronic publications of scientific articles.  When a scientific article is published in the form of an electronic publication in advance to the publication in print, the 6-month grace period will start from the date of the electronic publication.  This rule applies not only to a free electronic publication, but also to an electronic publication which requires registered membership and/or purchase of the publication for accessing the electronic publication.

Q4. An invention has been published as a scientific article and a basic patent application has been filed in the US within 6 months from the publication of the scientific article.  Already 10 months have passed from the publication of the scientific article, but is it still possible to enjoy the benefit of the Japanese 6-month grace period by filing a Japanese patent application claiming the Paris convention priority from the basic US application filed within 6 months from the publication date? 

A4.  No.  Claiming of the Paris convention priority does not allow the filing date in Japan to date back for the purpose of grace period.  In other words, when a basic application is filed in other country within 6 months from the date of public disclosure, and a Japanese patent application claiming the convention priority from the basic application is filed after the expiration of the 6-months grace period, the Japanese patent application cannot enjoy the benefit of the grace period.

For receiving the benefit of the 6-month grace period in Japan, the Applicant must file within the 6-month grace period either one of the following applications:

   (1) Japanese national patent application*, or

   (2) PCT application designating Japan as one of the designated states. 

* Either a Japanese patent application or a PCT application claiming the convention priority from this Japanese patent application can be filed after the expiration of the grace period and still enjoy the benefit of the grace period.

Q5. What are the steps necessary for obtaining the benefit of the Japanese 6-month grace period?  

A5.  Necessary steps are explained separately for Japanese national patent application and PCT application.

Japanese national patent application:

A patent application is filed simultaneously with a Request for Grace Period within 6 months from the date of public disclosure.  Alternatively, the Request may be omitted by stating such effect in the patent application.

Next, a Document Verifying the Request, which is signed by all applicants, is filed within 30 days from the filing date of the patent application.  Filing of a specific evidence material (such as a copy of the scientific article disclosing the invention) is not required, but it is most advisable to file the evidence material with the Document.

PCT application designating Japan:

When a PCT application designating Japan as one of the designated states is filed within the 6 month grace period, such a PCT application will obtain the benefit of the grace period even when the PCT application enters the Japanese national phase after the expiration of the grace period (i.e., within non-extensible 30 month deadline).  In this case, both the Request for Grace Period and the Document Verifying the Request are filed within 30 days from the entry into the Japanese national phase. 

[Filing of the Request for Grace Period can be omitted when “Declaration as to Non-Prejudicial Disclosures or Exceptions to Lack of Novelty” (PCT Rule 4.17(v), 26ter.1) is made at the international stage.]

The Document Verifying the Request can be prepared at our end and forwarded for execution by the applicant(s). 

タグ:

PCT  application  or  be  patent  Japan  an  Patent  Japanese  not  filing  with  design  filed  claim  period  Office  date  at  Request  one  art  invention  after  any  has  prior  applications  grace  file  only  been  case  within  such  other  into  may  months  phase  will  priority  we  under  made  all  but  Article  non  law  must  We  necessary  also  inter  through  registered  A2  Art  A1  applicant  Rule  step  against  type  Novelty  both  so  ex  effective  possible  following  What  required  even  steps  re  month  publication  disclosure  end  However  Declaration  Q2  Q1  cannot  Applicant  national  April  form  prepared  long  Disclosure  claiming  including  Invention  international  rule  simultaneously  state  public  Ex  covered  either  do  Grace  Q3  does  A3  days  stage  ep  articles  obtain  benefit  Period  Claim  material  Q4  expiration  designated  article  electronic  scientific  A4  Filing  deadline  country  basic  her  per  Document  applicants  inventions  back  entry  evidence  his  Lack  convention  designating  members  cover  Exceptions  understand  web  words  Non  Next  require  defined  ratio  allow  omitted  specific  she  states  start  explained  extensible  execution  applies  day  enjoy  certain  capable  How  According  advantage  able  Verifying  requires  separate  up  isa  over  published  most  purpose  forwarded  taking  Re  Q5  academic  low  mm  meetings  read  publications  red  passed  Paris  free  fr  current  copy  effect  ed  disclosures  fine  ip  invent  applicable  try  A5  An  Claiming  separately  signed  still 

Change of Applicant of a Pending Patent Application

Q1. What are the documents necessary for changing the applicant of a pending Japanese application?

A1.  For recordal of a new applicant at the Japan Patent Office, we need an Assignment from the original applicant (assignor) to assign a part or whole of the right to obtain patent to the new applicant (assignee).  Specifically, the following documents must be filed with the Japan Patent Office:

   (1) An executed assignment simply signed by both parties (the assignor and the assignee), in which the full names and titles of the representatives of the assignor and the assignee should be clearly indicated.

   (2) A power of attorney executed by the assignee.

Neither notarization nor legalization of documents (1) and (2) are required.  These documents may be prepared at our end and forwarded for execution by the assignor and the assignee.

Q2. Does the Japan Patent Office issue an official certificate for the recordal of a new applicant?

A2.  No certificate is issued by the Japan Patent Office.  Recordal of a new applicant can be confirmed by checking the patent database.

Addition of New Inventor to a Pending Patent Application

Q1. What are the statutory requirements for being named as an inventor in a Japanese application?

A1.  The statutory requirements for being named as an inventor in a Japanese application are the same as the US requirements.  Although an “inventor” is not clearly defined under the Japanese Patent Law, it is understood that an inventor is a person who actually participated in the creation of an invention, and either a mere assistant, an advisor, a person who provided financial support or a person who only gave instructions is not an inventor.

Q2. What are the documents necessary for adding an inventor to a pending Japanese application?

A2.  For adding a new inventor to a patent application, we need to file a Statement executed by the applicant and all inventors (Neither notarization nor legalization of the Statement is required). 

Such a Statement can be prepared at our end and forwarded for execution by the applicant and the inventors. 


お問い合わせ

Share | rss
ホームページ制作