リン

米国(1): 先発明主義から先願主義への移行とグレースピリオド(発明公開後の出願猶予期間)

米国の特許制度の最大の特徴は、先発明主義とグレースピリオド(発明公開後の出願猶予期間)でしたが、2011年9月16日にオバマ米大統領が「リーヒ・スミス米国発明法案」(Leahy-Smith America Invents Act))に署名したことにより、先発明(first-to-invent)主義から先願(first-to-file)主義へ移行することが決定しました。一方、1年間のグレースピリオド(one year grace period)制度は維持されます。グレースピリオド(猶予期間)の制度自体は、日本など米国以外の国にも存在しますが、米国におけるグレースピリオドは、元来、先発明主義に直結した制度であり、他の国とは適用の条件などが異なります。米国の先願主義は「1年間のグレースピリオド付き先願主義」(又は"first-inventor-to-file system"や"first-to-disclose system")のように称されることもあり、先願主義に移行後、このグレースピリオドの制度がどのように活用されるのか注目が集まっています。

先発明主義から先願主義への移行

米国は、最初に発明をした発明者に特許権を与える先発明主義を採用しておりましたが、2011年の法改正により、原則的に最初に出願をした発明者に特許権を与える先願主義へ移行します。但し、この移行は直ちに行われるわけではなく、2013年3月16日以降の出願が先願主義に基づいて処理されることになります。

先発明主義への移行の主要な目的は、国際的な調和(harmonization)を図ること及び抵触審査(Interference)手続きなどの先発明主義に由来する複雑な手続きを省くことで特許庁における手続きを効率化し、70万件にも及ぶ未処理案件(backlog)を減ずることにあります。

Prior art(先行技術)の定義拡張

日本を含む米国以外のほぼ全ての国は先願主義を採用していますので、今回の米国の先願主義への移行は、米国外における特許実務に与える影響は少ないと思われます。

しかし、先願主義への移行に伴いPrior art(先行技術)の定義が拡張されることに注意する必要が有ります。要するに先願主義への移行前であれば先行技術とならなかったものが、先願主義移行後は先行技術として引用される可能性があります。拡張されるのは以下の2点です。

1. 「世界公知」への移行

旧法下では新規性喪失の事由となり得る公知・公用は、米国内におけるものに限定されていたが、今回の法改正により米国外での公知・公用にも及ぶようになる(所謂「世界公知」への移行)。

即ち、旧法の102条(a)においては、例えば米国特許出願人による発明の前に日本で既に公然実施されていた技術によって米国出願の発明の新規性が否定されることはなかったが、新法の102条(a)(1)では、そのような米国外における公然実施によっても米国出願の発明の新規性が否定されることとなった(但し、米国外で公然実施した技術の発明者や共同発明者(又は発明者若しくは共同発明者により開示された技術を獲得した他人)などが公然実施を開始した日から1年以内に該発明者本人が米国出願した場合を除く)。

2. ヒルマードクトリン(Hilmer Doctrine)の廃止

米国以外の第一国出願の出願日も後願排除目的に有効な出願日(effective filing date)として認められることになった。

旧法の102条(e)では、所謂「ヒルマードクトリン(Hilmer Doctrine)」により、パリ条約ルートで出願された米国出願の第一国における出願日(パリ条約に基づく優先日)は、その米国出願の先行技術(Prior Art)としての有効日としては認められなかった。

例えば、2011年4月1日出願の日本出願に基づく優先権を主張して、2012年3月31日に(PCT出願をせずに直接)米国出願(出願A)した場合、この出願Aが後願排除の効力を発揮する日は、旧法下では、米国出願日である2012年3月31日であった。従って、この出願Aと同一の発明を開示する出願Bが、出願Aの優先日よりも後であり、米国出願日よりも前である2011年6月1日に出願された場合、出願Aは出願Bに対するPrior Art(先行技術)とは認められなかった(但し、出願Aの発明日を発明Bの発明日よりも前に遡及(swear-back)させることが出来る場合を除く)。しかし、改正法下では、この出願Aが後願排除の効力を発揮する日は優先日である2011年4月1日となり、上記出願B(出願日:2011年6月1日)は、出願Aに対して新規性を喪失することとなる。

また、PCT出願からの米国移行出願の場合、旧法下ではPCT公開公報が英語であれば、その国際出願日が、後願排除の有効日として認められる一方、英語以外の場合には、認められないということになっていたが、法改正により、PCT出願の言語に関わらず、そのPCTが優先権主張していれば優先日、優先権主張していなければ国際出願日が、後願排除の有効日と見なされることになる。

先願主義の適用条件

優先権主張日などの最先の出願日が、2013年3月16日以前であれば、原則的に旧法(先発明主義)による扱いになりますが、一つでも2013年3月16日以後のクレームがあると、新法(先願主義)での扱いになってしまいます。

また、優先権主張日が、2013年3月16日よりも前の出願であっても、補正により、優先権出願にサポートされていないクレームが一つでも含まれることになると、新法(先願主義)での扱いになります。そして、この場合、再度の補正によって、補正前のクレームに戻しても、旧法が適用されることとはなりません。

グレースピリオド(猶予期間)

米国においては、発明が公になっても1年以内であれば特許出願できます。これをしばしば“one year grace period”と称します。このグレースピリオドの制度は2011年の法改正においても維持されます。先願主義への移行後のグレースピリオド適用条件(新規性喪失の例外条件)は、改正法の102条(b)(1)に規定されております。

日本、中国などにも発明の公開後6ヶ月の出願猶予期間があり、韓国には米国と同じく1年(12ヶ月)の猶予期間があります(中国における出願猶予期間についてはこちらに、韓国に関してはこちらに、日米の場合と比較しながら説明してあります)。欧州には、猶予期間の規定自体はあるのですが、この利用はほぼ不可能に近いものとなっています(この点についてはこちらをご覧下さい)。また、日本、米国、欧州、中国、韓国におけるグレースピリオド制度の比較をこちらの表に示してあります。

猶予期間は米国の1年に対し日本などでは6ヶ月ですが、米国と日本とではこの期間の違い以外にも実務上の大きな違いがあります。

日本では、特許法第30条に基づいて新規性喪失の例外の適用を受けることができますが、公知になった日から6ヶ月以内に出願と同時に例外規定の適用を受けたい旨の書面を提出し、更に出願から3ヶ月以内に証明書類を提出しなければなりません。

尚、平成23年6月8日に公布され、平成24年4月1日から施行されている改正特許法においては、例外規定の条件(特許法第30条)が緩和されました。旧法においては、新規性喪失の例外の適用を受けるためには公知にした手段に様々な制約(学会発表で公知にした場合、特許庁長官指定の学術団体による学会における発表である必要があるなど)がありましたが、改正後は、特許を受ける権利を有する者の行為に起因して公となった発明については、広く新規性喪失の例外規定の適用を受けることができるようになりました。それでも所定の期間内に所定の手続きを取った場合に受けられる例外的な措置であることには変りありません。

一方で、米国においては、本人であれば公開した手段は問われず、猶予期間の適用申請手続きも必要ありません。これは、米国における猶予期間は、元々は先発明主義を採用していることに関連して、発明さえしていればその後いつ特許出願しても良いということになってしまうと公益を損なうことになるので、発明を公にしてから1年以内に出願しなければならないという時期的制限を設けることが主要な目的でありました。しかし、上記したように、発明を公知にした発明者本人に限り、先願主義に移行後もこの1年間の猶予期間の制度は維持されます。

従って、先願主義への移行によって発明日への遡及(swear-back)が不可能になった後、この1年間のグレースピリオドというカードをどのように利用するかということに注目が集まっています。

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米国(1)

Q. 米国における"utility patent"とはどのようなものか?

A. 米国特許には、実用特許(utility patent)、意匠特許(design patent)、植物特許(plant patent)の3種類があり、実用特許(utility patent)は、日本などにおける通常の特許に対応します。米国における"utility patent"を、日本における「実用新案」に対応するものと誤解されることが多いようですが、実用新案を表す英語は"utility model"です。

Q. 米国における「仮出願」とはどのようなものか?

A. 文字通り、優先権を確保するという目的のためだけの「仮の出願」(provisional application)です。通常の出願と異なり、要求事項が非常に少ないのが特徴です。主な特徴は以下の通りです。

- 出願言語は問われず日本語など英語以外の言語でも出願可。

- 通常の出願に要求されるような明細書の体裁は不要(クレームも不要、手書き図面もOK)1)

- 仮出願に対して審査が行われることは無く、出願日から12カ月以内に仮出願に基づく優先権主張をして通常の特許出願(non-provisional application)をしないと、その仮出願は自動的に放棄される。

- 通常の特許出願に移行した場合に限り、仮出願の出願日が、米国特許法第102条(a)項(2)号(旧法の102条(e)に対応)における「先願」としての基準日、即ち、後願排除の有効日となる2)

- 日本や欧州など殆どの国において、米国の仮出願に基づくパリ条約優先権主張が認められる3)

- 出願料は250ドル(約2万円)。

2011年の法改正(Leahy-Smith America Invents Act,AIA)によって米国は先発明主義から先願主義に移行しますが、それに伴って仮出願制度の重要性が増すであろうと言われております。

注:

1) 但し、仮出願の明細書に、発明が理解でき且つ実施可能な程度に記載されていなければなりません。即ち、記載要件と実施可能要件(明細書の記載に関する特許法112条第一パラグラフ)を満たす書類を提出する必要があります。といっても、上記のように、仮出願には通常の出願に要求されるような明細書の体裁は不要ですので、何らかの形で発明が十分に開示されていれば、仮出願に基づく優先権は通常認められます。例えば、仮出願において、説明を書き加えた図面を提出し、それを優先権の根拠とすることもできます。

また、英語以外の言語で仮出願した場合には、仮出願もしくは本出願において、仮出願の翻訳文を提出しなければ、仮出願の出願日への遡及を享受することができません。

2) 要するに、適正に本出願に移行した場合、仮出願は、その出願日以降に出願された第三者の出願に対して、102条の新規性及び/又は103条の自明性に関する先行技術となり得ます(Giacomini判決を参照;また、上記判決で言及されるAlexander Milburn Co. v Davis-Bournonville Co.を参照)。

なお、米国特許法第102条(a)項(2)号における「先願」としての基準日、即ち、後願排除の有効日については、こちらで詳しく述べましたように、2011年の改正法(AIA)により、旧法の102条(e)における所謂「ヒルマードクトリン(Hilmer Doctrine)」が廃止されました。これにより、米国以外の第一国出願の出願日も後願排除目的に有効な出願日(effective filing date)として認められることになりましたので、パリ条約に基づく優先日が後願排除の有効日とみなされることになり、また、PCT出願は(その出願言語に関わらず)、優先権主張していれば優先日、優先権主張していなければ国際出願日が、後願排除の有効日とみなされることになります。

3) 米国の仮出願に基づくパリ優先権を主張して、米国外に出願することも可能です。しかし、その様な場合、米国外の出願が、米国の仮出願にサポートされているか否か(優先権主張の有効性が認められるか否か)の判断は、その国の法律・規則に基づいて判断されます。この点、特に欧州は、欧州出願の発明が、基礎出願明細書から直接的且つ一義的に導き出せるものである場合にのみ優先権主張の有効性が認められますので、米国では優先権の有効性が認められるようなケースでも、欧州では認められないということが起こりえます。例えば、米国においては、上記の通り、図面に基づくサポートにも寛容であり、多くの場合認められますが、欧州においては、図面のみをサポートとして主張しても、認められない傾向があります。

Q. 出願明細書には必ず実施例を記載する必要があるのか

A. 当業者が過度の実験なしに発明を実施できるように記載されていれば、明細書に実施例を記載する必要は有りません[In re Borkowski, 422 F.2d 904, 908, 164 USPQ 642, 645 (CCPA 1970)]。

Q. 日本における特許出願の場合は、請求項が発明の詳細な説明によりサポートされていなければならないと規定されている(特許法第36条6項1号)が、米国の場合も同様の規定があるか

A. 米国の審査基準(MPEP)にも、日本特許法第36条6項1号の規定に相当する規定が有ります。即ち、MPEP § 608.01(g)及び608.01(o)には以下の規定が有ります。

608.01(g)   Detailed Description of Invention

A detailed description of the invention and drawings follows the general statement of invention and brief description of the drawings. ・・・・・ Every feature specified in the claims must be illustrated, but there should be no superfluous illustrations. 

608.01(o)   Basis for Claim Terminology in Description

The meaning of every term used in any of the claims should be apparent from the descriptive portion of the specification with clear disclosure as to its import; and in mechanical cases, it should be identified in the descriptive portion of the specification by reference to the drawing, designating the part or parts therein to which the term applies. ・・・・・The specification should be objected to if it does not provide proper antecedent basis for the claims by using form paragraph7.44.

上記608.01(g)においては、クレームに記載された全ての特徴について、明細書本文に説明がなければならないと規定されています。但し、当業者には自明の周知事項まで明細書に説明する必要はありません。

上記608.01(o)には、クレームについて明細書本文にも適切な開示が無い場合には、拒絶される旨規定されています。

従って、米国においても日本と同様に、クレームが明細書本文の記載にサポートされていることが要求されると考えます。

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各国における先行技術の定義と新規性喪失の例外(Part 1)

[I] 米国における先行技術の定義

2011年9月16日、オバマ大統領が米国特許法改正案"Leahy-Smith America Invents Act"に署名し、法律(以下「米国新法」という)として成立しました。この改正における1つの重要な変更は、先発明主義から先願主義への変更です(2013年3月16日から施行)。また、同時にかなり独特であった先行技術の定義も変更されます。先行技術の定義の変更は、基本的には日本などの諸外国の制度との国際的調和を図る物である一方、米国独特のグレース・ピリオド制度は維持されるため、依然として日本などにおける先行技術の定義とは大きく相違する点もあります。

まず、国際的調和に結びつく変更点として、以下が挙げられます:

- 公知公用については、国内公知から世界公知へ変更(新規性阻害事由となる公知公用について、国内のみならず外国における公知、公然の実施や文献の公開を先行技術に含めることになった。詳細な説明はこちら。)

- 所謂「ヒルマードクトリン(Hilmer Doctrine)」の廃止(旧法下では、米国特許出願の外国優先権主張日が、他の米国特許出願に対する先行技術の効力発生日として認められなかったが、新法下では認められるようになった。詳細な説明はこちら。)

そして、依然として残る大きな相違点は、米国においては、同じ発明に関して他人の先願があっても、その前に後願の発明者が自分で発明を公開していれば、該先願は該後願の先行技術とならないことです(日本では、そのような先願は先行技術となります)。米国の新たな制度が、「先願主義」ではく「先開示主義」だと揶揄される所以です。

以下、米国新法の下での先行技術となる発明について、概要を説明します。あくまで概要ですので、微細な点や実務上滅多に遭遇しない場合については触れません。

米国における先行技術:

米国新法の下では、特許出願に係る発明に対して先行技術(prior art)となる発明は、次の2種類です(米国新法第102条)。

(1)当該特許出願の有効出願日の前に公知であった発明 (2)当該特許出願の有効出願日の前の有効出願日を有する他人を発明者とする特許出願であってその後公開又は特許に至ったものに記載された発明

注: 「有効出願日」とは、優先権を有する(先の出願の出願日の利益を受ける)出願の場合には優先日を意味し、優先権を有しない出願の場合には出願日を意味します。

先行技術の例外:

上記項目(1)及び(2)のそれぞれについて、適用が除外される場合が設けられています。

項目(1)(出願前公知)の例外: 自分自身が公表したことによって公知になった発明(ただし、その公表の日から1年以内に特許出願をすることが必要)は、先行技術としては扱われません。

項目(2)(他者の先願)の例外: 当該他人を発明者とする特許出願の前に自分自身が発明を公表している場合や、当該他人を発明者とする特許出願と当該特許出願とが同一の譲受人に所有される場合には、適用されません。

日本における先行技術の定義との比較:

上記項目(1)(出願前公知)の先行技術は、日本の特許法第29条第1項に規定される先行技術に相当し、上記項目(1)についての適用除外(自分自身が公表したことによって公知になった発明)は、日本の特許法第30条の規定(新規性喪失の例外)に相当します(ただし、日本では、発明の公表から6ヶ月以内に新規性喪失の例外適用の申請書類と共に特許出願し、更に出願日から30日以内に証明書類を提出することが必要)。

したがって、適用が除外される場合まで考慮してまとめれば、米国における上記項目(1)の先行技術は、日本では猶予期間が1年でなく6ヶ月であり、またこれを享受するために申請が必要である点を除いては、日本の特許法の第29条第1項及び第30条に規定される先行技術に相当すると考えてよいでしょう。

上記項目(2)(他者の先願)の先行技術は、日本の特許法第29条の2本文に規定される先行技術に相当します。上記項目(2)の先行技術についての適用除外となる場合を2つ挙げましたが、これら2つの場合のうち、第2の場合(当該他人を発明者とする特許出願と当該特許出願とが同一の譲受人に所有される場合)は、日本の特許法第29条の2ただし書に規定される場合に相当します。一方、第1の場合(当該他人を発明者とする特許出願の前に自分自身が発明を公表している場合)は、米国独自の規定であって、日本には対応する規定はありません。したがって、適用が除外される場合まで考慮してまとめれば、米国における上記項目(2)の先行技術は日本の特許法の第29条の2に規定される先行技術に相当するが、米国では他人の特許出願より先に自分が発明を公表してしまえば当該他人の特許出願は先行技術にはならないという点に注意すべきである、ということになるでしょう。

例えば、出願人Aが発明を公表し、その5ヶ月後に出願Yを提出したが、その出願Yの出願日の2ヶ月前に出願人Bが同じ発明に関して出願Xを提出していたとします。このような場合、日本であれば、出願Xは出願Yの先行技術となり、例え出願Yが新規性喪失の例外規定の適用を受けていたとしても、出願Yは先願である出願Xにより新規性を喪失します。勿論、出願Xも出願人Aによる発明の公表によって新規性を喪失します。

一方、米国であれば、出願Xは出願Yに対する先行技術とは見なされません。出願Xは、出願人Aによる発明の公表によって新規性を喪失します。

priorart

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お知らせ

2012年5月1日 

弊所ウェブサイトを完全リニューアル致しました。旧サイトのコンテンツも完全に移行しましたが、リンク先アドレスの変更に伴い、サイト全体がGoogleなどの検索エンジンに読み込まれるまでは、ウェブ検索結果から本サイトのトップページにリダイレクトされてしまう場合がございます。しばらくの間、ご迷惑お掛け致しますが、ご理解の程よろしくお願い致します。また、ご不明な点などございましたらお気軽にお問い合せ下さい。

《特許出願明細書》

分野 : バイオテクノロジー(細胞生物学) (和英)

原文:

更に、MAPKキナーゼの活性化には、キナーゼドメインVIIとVIIIの境界領域にある2つのセリン及び/又はスレオニン残基(即ち、2つのセリン残基、2つのスレオニン残基又はセリンとスレオニン残基)のリン酸化が必要で、このリン酸化を担うセリン/スレオニンキナーゼをMAPKKキナーゼ(MAPKKK)と総称する。前記のRaf-1はMAPKKキナーゼの一種であり、Ras→Raf-1(即ち、MAPKKK)→MAPKK→MAPKという連鎖は、シグナル伝達の主要経路の一つである。MAPKKK→MAPKK→MAPKという3分子からなるキナーゼの連鎖をMAPキナーゼシグナルカスケードと呼ぶ。

英訳文:

For activating a MAPK kinase, it is necessary to phosphorylate two serine and/or threonine residues (i.e., two serine residues, two threonine residues, or one serine residue and one threonine residue) located in the boundary region between the kinase subdomains VII and VIII, and a serine/threonine kinase responsible for this phosphorylation is designated MAPKK kinase (MAPKKK). The above-mentioned Raf-1 is one example of MAPKK kinase, and the following cascade reaction: Ras → Raf-1 (i.e., MAPKKK) → MAPKK → MAPK, is one of the major signal transduction pathways. The cascade reaction consisting of three kinase molecules, MAPKKK → MAPKK → MAPK, is called a MAP kinase signal cascade.

分野:バイオテクノロジー(遺伝子工学) (和英)

原文:

SIIS-1発現プラスミドの構築上記(ii)で単離したSIIS-1cDNAを制限酵素XbalとPvuIIで消化し、得られた制限酵素断片をブラントエンド化し、哺乳動物発現ベクターpEF-BOSのブラントエンド化したXbalサイトに挿入した。以下、構築したSIIS-1発現ベクターをpEF-BOS/SIIS-1(SH+)とする。SH2領域を欠損した変異型SIIS-1を構築するために、pEF-BOS/SIIS-1(SH+)を制限酵素BssHIIで消化し、生じた360bpの断片を除去した。得られたSH2領 域及びC末端の領域を欠損したSIIS-1発現ベクター(即ち、SIIS-1変異ベクター)を、pEF-BOS/SIIS-1(SH-)とした。 上記で構築したpEF-BOS/SIIS-1(SH+)又はpEF-BOS/SIIS-1(SH-)のいずれか一方の発現ベクターとネオマイシン耐性遺伝子をコードするpSV2 Neoとを20:1の比率で混ぜ、M1細胞にエレクトロポレーション法で形質導入した。ネオマイシン耐性を指標とし、形質導入体(クローン)をGeneticin(米国、GIBCOBRL社製)750μg/mlを含む成長培地中で選択した。

英訳文:

Construction of SIIS-1 expression vectors: SIIS-1 cDNA isolated in step (ii) above was digested with restriction enzymes XbaI and PvuII, and the end of the obtained restriction fragment (XbaI-PvuII) was converted into a blunt end. Then, the resultant blunt-ended fragment was inserted into the blunt-ended XbaI site of the mammalian expression vector pEF-BOS. Hereinafter, the constructed SIIS-1 expression vector is simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH+)". For the construction of a mutant SIIS-1 which is an SH2 domain-deficient SIIS-1, a BssHII-digested fragment of 360 bp was removed from pEF-BOS/SIIS-1 (SH+). The thus obtained SIIS-1 expression vector (that is, a mutant SIIS-1 vector) which is deficient in the SH2 domain and is truncated at the C-terminus is hereinafter simply referred to as "pEF-BOS/SIIS-1 (SH-)". Each of the expression vectors pEF-BOS/SIIS-1 (SH+) and pEF-BOS/SIIS-1 (SH-) prepared above was individually mixed with expression vector pSV2 Neo (encoding a neomycin-resistance gene) at a ratio of 20:1. Subsequently, each of the resultant vector mixtures was separately transfected into M1 cells by electroporation. Using neomycin resistance as an index, the transfectants (i.e., clones) were selected in the growth medium containing Geneticin (manufactured and sold by GIBCO BRL, USA) at 750 μg/ml.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

本発明の発泡射出成形方法によれば、金型キャビティ内壁面形状の転写性が良好で、無発泡の表皮層と高発泡の発泡層を有する成形品を再現性良く、効率的、経済的に製造することができるだけでなく、成形品の表皮層の厚さおよび成形品の発泡倍率を容易に制御することができる。

英訳文:

The foam-injection molding method of the present invention is advantageous not only in that a molded article which exhibits excellent reproduction of the morphology of the inner wall of the mold cavity and which has both a non-foamed surface skin layer and a highly foamed interior portion can be produced with excellent reproducibility and high efficiency and economically, but also in that the thickness of the surface skin layer and the expansion ratio of the molded article can be easily controlled. The foam-injection molding method of the present invention can provide various excellent foam-injection molded articles of a thermoplastic resin at a low cost.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明は、複合色素及びn型半導体を包含する光電変換素子であって、該複合色素は、互いに 異なる励起準位を有する複数の成分色素が互いに化学結合されてなり、それにより、電子移動用の直鎖又は枝分かれ構造体を形成し、該直鎖又は枝分かれ構造体は一端において該n型半導体に保持され、他端は自由端であり、その励起準位が該直鎖又は枝分かれ構造体の上記のn型半導体に保持された端部から、上記の自由端に向かって減少する順序で配列されていることを特徴とする光電変換素子に関する。

英訳文:

The present invention is concerned with a photoelectric conversion element comprising a composite dye and an n-type semiconductor, the composite dye comprising a plurality of component dyes which have different excitation levels and which are chemically bonded to each other to form a straight chain or branched structure for transferring an electron therethrough, wherein the straight chain or branched structure is, at one end thereof, secured to the n-type semiconductor and has, at least at one other end thereof, a free end, and wherein the plurality of component dyes are arranged in an order such that the excitation levels of the plurality of component dyes are decreased as viewed from the one end of the structure toward the at least one other end of the structure.

分野 : 電気工学 (和英)

原文:

本発明の光電変換素子は、光電変換性能に優れ、特に、太陽エネルギーからのエネルギー取り 出し効率(エネルギー変換効率)が高く、また、それを用いて簡便に色素増感型太陽電池を製造 することができるので、色素増感型太陽電池などに有利に用いられる。

英訳文:

The photoelectric conversion element of the present invention exhibits excellent photoelectric conversion properties, especially high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency), and a dye sensitized solar battery can be easily produced therefrom. Therefore, the photoelectric conversion element of the present invention can be advantageously used for a dye sensitized solar battery and the like.

分野 : 樹脂成形 (和英)

原文:

文明社会はエネルギーの消費によって成立するが、そのエネルギーの大部分は、自然が長年か けて太陽光エネルギーを蓄えた化石燃料に由来する。近年、その化石燃料の減少やその燃焼に よる地球温暖化問題が、人類社会の持続的発展の足かせとなる危惧が高まっている。 これらの問題を解決するために、太陽エネルギーから直接エネルギーを取り出す研究開発が盛 んに行われている。これらの中で、太陽電池は太陽エネルギーからのエネルギー取り出し効率 (エネルギー変換効率)が高いため多くの研究が為されている。とりわけ、色素に代表される光 増感剤を用い、その励起電子を効率よく取り出すことが可能な色素増感型太陽電池は、Michae l Gratzel等によって、エネルギー変換効率が7%を超えるシステムが発表(Nature 1991,353,737参照)されて以来、複雑な製造工程を経ず、安価に製造できる次世代の太陽 電池として注目を集めている。

英訳文:

Consumption of energy is indispensable to civilized society. Most of the energy which is consumed by civilized society is derived from fossil fuels, in which sunray energy has been accumulated over many years. In recent years, the problem that the amount of fossil fuels available is being reduced and the problem that the burning of fossil fuels causes global warming have arisen, and there is an increasing fear that these problems will be obstacles to the sustainable development of human society. For solving the above-mentioned problems, various studies have been made to directly utilize sunray energy. Among these studies, the studies on solar batteries have been vigorously made, because solar batteries exhibit high efficiency in converting solar energy to electric energy (i.e., high energy conversion efficiency). Among the solar batteries, special attention has been paid to a dye sensitized solar battery, which uses a photosensitizer, such as a dye, and which is capable of efficiently taking out electrons from the photosensitizer by the irradiation of the photosensitizer with sunray. Specifically, since Michael Gratzel et al. reported a system which uses a dye sensitized solar battery having an energy conversion efficiency of more than 7 % (see Nature 1991, 353, 737), a dye sensitized solar battery has drawn special attention as the next generation solar battery which can be produced at a low cost without use of a complicated method.

分野 : 鉄鋼技術、機械 (英和)

原文:

A production line for manufacturing hot steel strips from two casting lines (a, b) for thin slabs of thickness < 100 mm, only one of which (a) is aligned with a rolling line (e, g) characterized by comprising superimposed heating furnaces with mandrel (Al, A.2; Bl, B2), one pair on line (a) and one on line (b) respectively, both provided with internal mandrel to allow winding/unwinding steps of pre-strips having thickness lower than 30 mm, further comprising a bypass length (d) between said two furnaces (Al, A2) for the endless rolling in a finishing rolling mill (g) through a roller path (e), and a transverse path (k.) for transferring said pair of furnaces (Bl, B2) from line (b) to line (a) fox the production of single strips, there being provided an induction furnace (f) downstream of said heating furnaces with mandrel and immediately upstream of said finishing rolling mill (g).

和訳文:

熱間鋼帯を製造するための製造ラインであって、厚み100mm未満の薄いスラブ製造用の2つの鋳造ライン(a)及び(b)、該鋳造ライン(a)と直列に配置されてなる、ローラーコンベア(e)及び仕上用圧延機(g)を含む圧延ライン、上下に重なり合った加熱炉(A1)及び(A2)であって、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、該鋳造ライン(a)に設けられた加熱炉(A1)及び(A2)、上下に重なり合った加熱炉(B1)及び(B2)であって、該鋳造ライン(b)で製造されたスラブから得られる厚み30mm未満の仕上前鋳片の巻き取り及び巻き出し用マンドレルを内部に有しており、鋳造ライン(b)に設けられた加熱炉(B1)及び(B2)、該鋳造ライン(a)で製造されたスラブを、ローラーコンベア(e)を介して仕上用圧延機(g)で連続的圧延に付すためのバイパス経路(d)であって、加熱炉(A1)と(A2)との間に設けられたバイパス経路(d)、加熱炉(B1)及び(B2)を、鋳造ライン(b)から鋳造ライン(a)に移動するための横断経路(k)、及びマンドレルを有する該加熱炉の下流であって、該仕上用圧延機(g)の直上流に設けられた誘導炉(f)、を含むことを特徴とする製造ライン。

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米国  発明  必要  上記  以下  or  be  可能  方法  an  成分  制限  not  選択  本発明  with  design  問題  特徴  action  at  技術  容易  one  art  invention  原文  present  after  any  has  導入  近年  above  製造  epo  複数  report  only  been  英訳文  英訳  参照  such  II  分野  工程  use  other  into  will  system  we  more  method  than  between  made  mentioned  III  all  but  解決  problem  having  non  necessary  also  inter  through  resin  was  there  A2  go  部分  A1  consisting  発表  エネルギー  step  type  both  so  excellent  ex  high  following  有利  サイト  和英  said  steps  re  ライン  成立  years  each  end  without  直接  single  comprising  heat  obtained  SIIS  form  prepared  energy  システム  Therefore  further  SIIS  out  動物  機械  two  solar  注目  properties  example  reaction  because  many  ii  provide  kinase  amount  used  least  do  ベクター  provided  year  referred  were  component  conduct  pEF  BOS  simply  index  plurality  conversion  respect  MAPKK  where  ep  化学  複雑  バイオテクノロジー  expression  効率的  articles  DNA  主要  obtain  和訳  structure  dye  efficiency  SH  restriction  main  MAPK  wherein  like  減少  制御  available  battery  細胞  designated  article  directly  construction  being  cost  一端  different  BOS  他端  production  containing  these  一種  開発  VIII  加熱炉  various  MAPKKK  her  pEF  per  element  electric  see  vector  three  am  its  sensitized  バイ  バイオ  B2  セリン  product  太陽  キナーゼ  term  単離  構築  his  herein  rolling  result  長年  該鋳造  order  変換  訳文  経済的  paid  SH  発現  converted  thus  threonine  以来  再現  スラブ  スレオニン  安価  効率  resistance  portion  遺伝子工学  電気工学  individual  順序  reported  ratio  鋳造  Raf  attention  製造用  枝分  VII  mandrel  未満  allow  act  photoelectric  構造体  located  There  less  構造  lines  easily  由来  B1  形成  foam  furnaces  exhibits  domain  due  highly  hereinafter  serine  batteries  耐性  代表  blunt  自然  内部  色素増感型太陽電池  dyes  development  保持  マンドレル  発泡倍率  composite  complicated  簡便  ended  concerned  cells  capable  光電変換素子  cascade  exam  converting  chemical  電池  配置  コード  advantage  able  XbaI  Specifically  Nature  view  late  manufacture  和訳文  residues  半導体  残基  since  injection  separate  樹脂  成形品  up  own  pair  型半導体  over  problems  produced  photosensitizer  path  変換効率  molded  molding  mutant  my  vectors  immediately  前記  fragment  fuels  制限酵素  surface  fossil  分子  therefrom  thickness  studies  sunray  strips  special  society  taking  酸化  連鎖  mm  Xbal  II  性能  指標  電子  除去  領域  エレクトロポレーション  研究  仕上前鋳片  仕上用圧延機  移動  比率  包含  伝達  化学結合  化石燃料  樹脂成形  欠損  消化  励起準位  発展  シグナル  該直鎖又  変異  表皮層  ローラーコンベア  リン  上下  経路  バイパス  ネオマイシン  ブラントエンド  英和  自由端  next  oa  neomycin  Ras  PvuII  SH2  mold  major  man  advantageous  low  mill  mm  ml  USA  range  MAP  Hereinafter  recent  red  free  fr  fox  foamed  deficient  heating  convert  finishing  excitation  exhibit  efficiently  ed  digested  fact  human  ip  invent  branched  internal  levels  layer  arranged  coding  increasing  civilized  causes  called  chain  uses  Each  respectively  resultant  responsible  Among  skin  BssHII  site  Bl  sold  straight  separately  semiconductor  signal  way  steel  transferring  transfer  toward  Gratzel  residue  Geneticin  thereof 


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